Осаждение пленок TiN и TiO2 в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
The results of a study of the optical emission of discharge plasma in the wavelength range of 350–820 nm and the discharge voltage of an inverted cylindrical magnetron under various flows of reactive gases (N₂, O₂) are presented. The variation in discharge voltage exhibits features that can be corre...
Збережено в:
| Дата: | 2008 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.4.47 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |