Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров
Modern fabrication technologies of field emission cathodes are analyzed. A practical method for forming topological elements of submicron dimensions is proposed. A CMOS-based technology using micron-scale photomasks has been developed and modeled for the fabrication of single-tip, multi-tip, and bl...
Gespeichert in:
| Datum: | 2007 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.5.50 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipment| _version_ | 1859600911422193664 |
|---|---|
| author | Druzhynin, A. A. Holota, V. I. Kogut, I. T. |
| author_facet | Druzhynin, A. A. Holota, V. I. Kogut, I. T. |
| author_sort | Druzhynin, A. A. |
| baseUrl_str | |
| collection | OJS |
| datestamp_date | 2026-03-13T10:31:40Z |
| description |
Modern fabrication technologies of field emission cathodes are analyzed. A practical method for forming topological elements of submicron dimensions is proposed. A CMOS-based technology using micron-scale photomasks has been developed and modeled for the fabrication of single-tip, multi-tip, and blade-type field emission silicon cathodes of submicron size. The results of electric field modeling for the field emission cathodes are presented.
|
| first_indexed | 2026-03-14T02:00:27Z |
| format | Article |
| id | oai:tkea.com.ua:article-827 |
| institution | Technology and design in electronic equipment |
| keywords_txt_mv | keywords |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2026-03-14T02:00:27Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| record_format | ojs |
| spelling | oai:tkea.com.ua:article-8272026-03-13T10:31:40Z Fabrication technology of submicron field emission silicon cathodes Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров Druzhynin, A. A. Holota, V. I. Kogut, I. T. fabrication technology submicron size field emission cathode electrode aperture electric field технология изготовления субмикронный размер автоэмиссионный катод апертура электрода электрическое поле Modern fabrication technologies of field emission cathodes are analyzed. A practical method for forming topological elements of submicron dimensions is proposed. A CMOS-based technology using micron-scale photomasks has been developed and modeled for the fabrication of single-tip, multi-tip, and blade-type field emission silicon cathodes of submicron size. The results of electric field modeling for the field emission cathodes are presented. Проанализированы современные технологии изготовления автоэмиссионных катодов. Предложен практический способ формирования топологических элементов субмикронных размеров. Разработана и промоделирована технология изготовления одноострийных, многоострийных и лезвийных автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров по КМОП-технологии с использованием фотошаблонов микронных размеров. Показаны результаты моделирования электрического поля автоэмиссионного катода. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2007-10-28 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.5.50 Technology and design in electronic equipment; No. 5 (2007): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 50-53 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 5 (2007): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 50-53 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.5.50/749 Copyright (c) 2007 Druzhynin A. A., Holota V. I., Kogut I. T. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| spellingShingle | технология изготовления субмикронный размер автоэмиссионный катод апертура электрода электрическое поле Druzhynin, A. A. Holota, V. I. Kogut, I. T. Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title | Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title_alt | Fabrication technology of submicron field emission silicon cathodes |
| title_full | Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title_fullStr | Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title_full_unstemmed | Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title_short | Технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| title_sort | технология изготовления автоэмиссионных кремниевых катодов субмикронных размеров |
| topic | технология изготовления субмикронный размер автоэмиссионный катод апертура электрода электрическое поле |
| topic_facet | fabrication technology submicron size field emission cathode electrode aperture electric field технология изготовления субмикронный размер автоэмиссионный катод апертура электрода электрическое поле |
| url | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.5.50 |
| work_keys_str_mv | AT druzhyninaa fabricationtechnologyofsubmicronfieldemissionsiliconcathodes AT holotavi fabricationtechnologyofsubmicronfieldemissionsiliconcathodes AT kogutit fabricationtechnologyofsubmicronfieldemissionsiliconcathodes AT druzhyninaa tehnologiâizgotovleniâavtoémissionnyhkremnievyhkatodovsubmikronnyhrazmerov AT holotavi tehnologiâizgotovleniâavtoémissionnyhkremnievyhkatodovsubmikronnyhrazmerov AT kogutit tehnologiâizgotovleniâavtoémissionnyhkremnievyhkatodovsubmikronnyhrazmerov |