Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD
The features of technological processes for fabricating submicron CMOS VLSI circuits and their simulation are considered. Particular attention is given to modeling of the doping profile. Simulation of technological processes for submicron VLSI fabrication significantly reduces the cost of experimen...
Gespeichert in:
| Datum: | 2007 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2007
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.4.32 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipment| _version_ | 1859600913466916864 |
|---|---|
| author | Glushko, A. A. Rodionov, I. A. Makarchuk, V. V. |
| author_facet | Glushko, A. A. Rodionov, I. A. Makarchuk, V. V. |
| author_sort | Glushko, A. A. |
| baseUrl_str | |
| collection | OJS |
| datestamp_date | 2026-03-13T18:16:15Z |
| description |
The features of technological processes for fabricating submicron CMOS VLSI circuits and their simulation are considered. Particular attention is given to modeling of the doping profile. Simulation of technological processes for submicron VLSI fabrication significantly reduces the cost of experimental work required for optimizing the design of device elements, especially impurity profiles.
|
| first_indexed | 2026-03-14T02:00:29Z |
| format | Article |
| id | oai:tkea.com.ua:article-837 |
| institution | Technology and design in electronic equipment |
| keywords_txt_mv | keywords |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2026-03-14T02:00:29Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| record_format | ojs |
| spelling | oai:tkea.com.ua:article-8372026-03-13T18:16:15Z Modeling of submicron CMOS VLSI fabrication processes using TCAD systems Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD Glushko, A. A. Rodionov, I. A. Makarchuk, V. V. modeling fabrication technological processes CMOS VLSI моделирование производство технологические процессы КМОП СБИС The features of technological processes for fabricating submicron CMOS VLSI circuits and their simulation are considered. Particular attention is given to modeling of the doping profile. Simulation of technological processes for submicron VLSI fabrication significantly reduces the cost of experimental work required for optimizing the design of device elements, especially impurity profiles. Рассмотрены особенности технологических процессов изготовления субмикронных КМОП СБИС и их моделирования. Особое внимание уделено моделированию примесного профиля. Моделирование технологических процессов изготовления субмикронных СБИС существенно уменьшает затраты на экспериментальные работы по оптимизации конструкции их элементов, особенно примесных профилей. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2007-08-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.4.32 Technology and design in electronic equipment; No. 4 (2007): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 32-34 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 4 (2007): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 32-34 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.4.32/759 Copyright (c) 2007 Glushko A. A., Rodionov I. A., Makarchuk V. V. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| spellingShingle | моделирование производство технологические процессы КМОП СБИС Glushko, A. A. Rodionov, I. A. Makarchuk, V. V. Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title | Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title_alt | Modeling of submicron CMOS VLSI fabrication processes using TCAD systems |
| title_full | Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title_fullStr | Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title_full_unstemmed | Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title_short | Моделирование технологии изготовления субмикронных КМОП СБИС с помощью систем TCAD |
| title_sort | моделирование технологии изготовления субмикронных кмоп сбис с помощью систем tcad |
| topic | моделирование производство технологические процессы КМОП СБИС |
| topic_facet | modeling fabrication technological processes CMOS VLSI моделирование производство технологические процессы КМОП СБИС |
| url | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2007.4.32 |
| work_keys_str_mv | AT glushkoaa modelingofsubmicroncmosvlsifabricationprocessesusingtcadsystems AT rodionovia modelingofsubmicroncmosvlsifabricationprocessesusingtcadsystems AT makarchukvv modelingofsubmicroncmosvlsifabricationprocessesusingtcadsystems AT glushkoaa modelirovanietehnologiiizgotovleniâsubmikronnyhkmopsbisspomoŝʹûsistemtcad AT rodionovia modelirovanietehnologiiizgotovleniâsubmikronnyhkmopsbisspomoŝʹûsistemtcad AT makarchukvv modelirovanietehnologiiizgotovleniâsubmikronnyhkmopsbisspomoŝʹûsistemtcad |