Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
Збережено в:
| Дата: | 2006 |
|---|---|
| Автори: | B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, V. N. Golotjuk, A. A. Marinenko, D. V. Lukomskij |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2006
|
| Назва видання: | Technology and design in electronic equipment |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000455229 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
Research of the photo-electric characteristics microphototerminal
за авторством: A. V. Karimov, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: A. V. Karimov, та інші
Опубліковано: (2006)
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Chemical etching of ZnSe crystal surfaced by the H2O2–HBr– acetic acid solutions
за авторством: A. S. Stanetskaja, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. S. Stanetskaja, та інші
Опубліковано: (2014)
Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Photo-induced acceleration of chemical reactions by spherical mono- and bimetallic nanoparticles
за авторством: N. A. Smirnova, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: N. A. Smirnova, та інші
Опубліковано: (2024)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Semiconductor surface spectroscopy using transverse acousto-electric effect: Role of surface charge in photo-processes at ZnS/Si interface
за авторством: N. P. Tatyanenko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: N. P. Tatyanenko, та інші
Опубліковано: (2018)
Quantum chemical simulation of surface hydrophobization of silicate materials with alkali siliconates
за авторством: A. H. Hrebeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: A. H. Hrebeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: R. I. Shekhter, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: R. I. Shekhter, та інші
Опубліковано: (2017)
Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: Shekhter, R.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Shekhter, R.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
Electric cell voltage at etching and deposition of metals under an inhomogeneous constant magnetic field
за авторством: Gorobets, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Gorobets, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
Alloying of surface layer of mould copper plates by the method of plasma-arc remelting
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2017)
Photoelectric converter model studing based on monocrystal Si using photo-electromagnetic and magneto-concentration effect
за авторством: N. N. Chernyshov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: N. N. Chernyshov, та інші
Опубліковано: (2014)
The influence of HF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor "Almaz" for the synthesis of diamond-like carbon films
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2014)
Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
Analysis of chemical nickel plating process
за авторством: K. Mazur, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: K. Mazur, та інші
Опубліковано: (2018)
Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)
Restoration of surface layer of MCCB mould copper plate by using plasma-arc technology
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2015)
High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004)
Obtaining periodic layers GaAs by electrochemical etching
за авторством: A. F. Djadenchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. F. Djadenchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Investigation into the characteristics of silicon photovoltaic converters of solar batteries in case of overheating
за авторством: A. V. Ivanchenko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. V. Ivanchenko, та інші
Опубліковано: (2018)
Modelling of interrelations of mechanical, electric and chemical parameters of metal surface
за авторством: R. M. Dzhala, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: R. M. Dzhala, та інші
Опубліковано: (2018)
Strengthening the surface layer of CCM mould copper plates by hafnium with application of plasma-arc technology
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2015)
Modeling converter heat using in charge of silicon, iron-containing briquettes
за авторством: K. F. Chmyrkov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: K. F. Chmyrkov, та інші
Опубліковано: (2014)
Схожі ресурси
-
Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017) -
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015) -
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017) -
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017) -
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)