Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2006
Автори:	B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, V. N. Golotjuk, A. A. Marinenko, D. V. Lukomskij
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2006
Назва видання:	Technology and design in electronic equipment
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000455229
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Development of anti-reflecting surfaces based on Si micropyramids and wet-chemically etched Si nanowire arrays
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2018)

Obtaining silicon carbide via chemical vapor, plasma-chemical and sublimation methods
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)

Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)

Research of the photo-electric characteristics microphototerminal
за авторством: A. V. Karimov, та інші
Опубліковано: (2006)

Chemical etching of ZnSe crystal surfaced by the H2O2–HBr– acetic acid solutions
за авторством: A. S. Stanetskaja, та інші
Опубліковано: (2014)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Photo-induced acceleration of chemical reactions by spherical mono- and bimetallic nanoparticles
за авторством: N. A. Smirnova, та інші
Опубліковано: (2024)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)

Quantum chemical simulation of surface hydrophobization of silicate materials with alkali siliconates
за авторством: A. H. Hrebeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)

Semiconductor surface spectroscopy using transverse acousto-electric effect: Role of surface charge in photo-processes at ZnS/Si interface
за авторством: N. P. Tatyanenko, та інші
Опубліковано: (2018)

Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: Shekhter, R.I., та інші
Опубліковано: (2017)

Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: R. I. Shekhter, та інші
Опубліковано: (2017)

The influence of HF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor "Almaz" for the synthesis of diamond-like carbon films
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2014)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)

Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Analysis of chemical nickel plating process
за авторством: K. Mazur, та інші
Опубліковано: (2018)

Alloying of surface layer of mould copper plates by the method of plasma-arc remelting
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2017)

Photoelectric converter model studing based on monocrystal Si using photo-electromagnetic and magneto-concentration effect
за авторством: N. N. Chernyshov, та інші
Опубліковано: (2014)

Electric cell voltage at etching and deposition of metals under an inhomogeneous constant magnetic field
за авторством: Gorobets, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)

Spectra of the photo-electric phenomena physically differentiated on the light absorption factor
за авторством: Berezhinsky, L.I., та інші
Опубліковано: (2004)

Divergent-beam X-ray structural studies of a disturbed surface layer in silicon plates
за авторством: Tkach, V.N.
Опубліковано: (2002)

Modelling of interrelations of mechanical, electric and chemical parameters of metal surface
за авторством: R. M. Dzhala, та інші
Опубліковано: (2018)

Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
за авторством: Tomashik, Z.F., та інші
Опубліковано: (2005)