Зображення обкладинки

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2006
Автори:	B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, V. N. Golotjuk, A. A. Marinenko, D. V. Lukomskij
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2006
Назва видання:	Technology and design in electronic equipment
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000455229
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Development of anti-reflecting surfaces based on Si micropyramids and wet-chemically etched Si nanowire arrays
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2018)

Obtaining silicon carbide via chemical vapor, plasma-chemical and sublimation methods
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)

Research of the photo-electric characteristics microphototerminal
за авторством: A. V. Karimov, та інші
Опубліковано: (2006)

Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)

Chemical etching of ZnSe crystal surfaced by the H2O2–HBr– acetic acid solutions
за авторством: A. S. Stanetskaja, та інші
Опубліковано: (2014)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Conductivity and photo-induced conductivity of two-dimensional macroporous silicon structures
за авторством: V. F. Onyshchenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Photo-induced acceleration of chemical reactions by spherical mono- and bimetallic nanoparticles
за авторством: N. A. Smirnova, та інші
Опубліковано: (2024)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)

Quantum chemical simulation of surface hydrophobization of silicate materials with alkali siliconates
за авторством: A. H. Hrebeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)

Semiconductor surface spectroscopy using transverse acousto-electric effect: Role of surface charge in photo-processes at ZnS/Si interface
за авторством: N. P. Tatyanenko, та інші
Опубліковано: (2018)

Semiconductor surface spectroscopy using transverse acousto-electric effect: Role of surface charge in photo-processes at ZnS/Si interface
за авторством: Tatyanenko, N.P., та інші
Опубліковано: (2018)

Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: Shekhter, R.I., та інші
Опубліковано: (2017)

Photo-spintronics of spin-orbit active electric weak links
за авторством: R. I. Shekhter, та інші
Опубліковано: (2017)

Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)

The influence of HF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor &quot;Almaz&quot; for the synthesis of diamond-like carbon films
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2014)

Analysis of chemical nickel plating process
за авторством: K. Mazur, та інші
Опубліковано: (2018)

Alloying of surface layer of mould copper plates by the method of plasma-arc remelting
за авторством: V. G. Kozhemjakin, та інші
Опубліковано: (2017)

Photoelectric converter model studing based on monocrystal Si using photo-electromagnetic and magneto-concentration effect
за авторством: N. N. Chernyshov, та інші
Опубліковано: (2014)

Electric cell voltage at etching and deposition of metals under an inhomogeneous constant magnetic field
за авторством: Gorobets, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)

Conference Photos
Опубліковано: (2012)

Spectra of the photo-electric phenomena physically differentiated on the light absorption factor
за авторством: Berezhinsky, L.I., та інші
Опубліковано: (2004)

Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)