High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching
Збережено в:
Дата: | 2004 |
---|---|
Автор: | V. I. Farenik |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2004
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849744 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2009) -
Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Low-vacuum gas-discharge electron guns on the basis of high voltage glow discharge
за авторством: Tutyk, V.A.
Опубліковано: (2008) -
Low Energy-intensive plasma systems with discharges in combined electric and magnetic fields
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2009)