Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
Збережено в:
| Дата: | 2004 |
|---|---|
| Автори: | V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, V. Kasan |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2004
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2005) -
Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012) -
Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023) -
Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Photometric diagnostics of plasma of planar capacitive RF discharge in argon at 1 atm pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)