Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2004
Автори: V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, V. Kasan
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: 2004
Назва видання:Physical surface engineering
Онлайн доступ:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси