Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
Збережено в:
| Дата: | 2004 |
|---|---|
| Автори: | V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, V. Kasan |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2004
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2005)
Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)
Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
Photometric diagnostics of plasma of planar capacitive RF discharge in argon at 1 atm pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
Simulation oh the ignition of a low pressure rf capacitive discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Spatial distribution of continuum radiation from plasma of planar capacitive RF discharge in argon at 1 atm pressure: photometric study
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part II. similarity of TDES in a solid and in the RF discharge
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2019)
The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Peculiarities of electic Discharge Cleaning of Precise Casting
за авторством: T. D. Denisjuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: T. D. Denisjuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Plasma parameters evolution during conditioning RF discharges in Uragan-2M torsatron
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)
2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part I. General observations
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2018)
Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
MHD plasma activity in the U-3M torsatron during the RF cleaning mode with the magnetic field Bφ(0) = 0.02 T
за авторством: Pashnev, V.K., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Pashnev, V.K., та інші
Опубліковано: (2019)
Radial distributions of RF discharge plasma parameters and radial electric field in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Volkov, E.D., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Volkov, E.D., та інші
Опубліковано: (2000)
Numerical simulation of nanoparticles coagulation in RF-discharge
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
Influence of movable B₄C-limiter on characteristics of RF discharge plasma in the Uragan-2M torsatron
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of the frame-type antenna on the RF-discharge peripheral plasma parameters in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Leleko, Ya.F., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Leleko, Ya.F., та інші
Опубліковано: (2017)
RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma catalysis of carbon nanoparticles synthesis in the pyrolytic chamber
за авторством: Veremii, Iu.P., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Veremii, Iu.P., та інші
Опубліковано: (2012)
Design and application of glow discharge cleaning at Uragan-2M stellarator
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2021)
Application of glow discharge plasma for cleaning (activation) and modification of metal surfaces while welding, brazing, and coating deposition
за авторством: M. G. Bolotov, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: M. G. Bolotov, та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma density measurement of RF ion source
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Voznyy, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
The capacitive component of double layer current in plasma
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2017)
THE CAPACITIVE STORAGE DEVICE IN THE CIRCUIT OF SYNCHRONOUS MOTOR EXCITATION FOR THE FIELD FORCING AND DISCHARGE
за авторством: Slobodeniuk, D. V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Slobodeniuk, D. V., та інші
Опубліковано: (2015)
Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)
Dusty RF discharges with non-uniform distributions of dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2003)
Beam dynamics in RF gun with plasma cathode
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Схожі ресурси
-
Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2005) -
Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012) -
Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023) -
Ignition and properties of RF capacitive discharge in acetylene
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)