Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source
Збережено в:
| Дата: | 2007 |
|---|---|
| Автори: | O. V. Vozniy, G. Y. Yeom, Yu. Kropotov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2007
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858403 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Ion sources optimization for high energy ion implantation by computer simulation
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Litovko, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
The Local Sources of Detrital Material in Middle Devonian Quartzites of the Donets Basin: Results of U-Pb LA-ICP-MS Zircon Dating
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: L. V. Shumlyanskyy, та інші
Опубліковано: (2021)
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Effective grain potential in a plasma with external sources of ionization
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Zagorodny, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)
Influence of the ion viscosity on the current sheet formation and plasma heating
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kurov, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)
Ion acoustic instability in dusty plasma
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Susayev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2020)
Spatial energy channelling and stochastization of fast ion motion by high-frequency plasma instabilities
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
U-Pb LA-ICP-MS AGE OF DETRITAL ZIRCON FROM THE HLEYUVATKA SUITE OF KRYVBAS (THE UKRAINIAN SHIELD)
за авторством: Artemenko, G.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Artemenko, G.V., та інші
Опубліковано: (2018)
The influence of the bias potential and working gas pressure on the properties of the ion-plasma multilayer coating TiSiN/NbN
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Development of the heavy ion beam probing diagnostic and new results in the plasma electric potential investigations
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Bondarenko, I.S., та інші
Опубліковано: (2000)
Ion-acoustic turbulence in plasmas
за авторством: V. P. Silin
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. P. Silin
Опубліковано: (2012)
Ion-acoustic turbulence in plasmas
за авторством: V. P. Silin
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. P. Silin
Опубліковано: (2012)
SYSTEM OF POWER SUPPLY WITH ALTERNATIVE ENERGY SOURCES: SECURITY OF ACOUSTIC SOURCES’ FUNCTIONING
за авторством: Sokol, G, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Sokol, G, та інші
Опубліковано: (2019)
Power absorption inside helicon plasma of helium RF ion source in nonaxial magnetic field
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Alexenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2015)
U-Pb LA-ICP-MS age of detrital zircon from the Hleyevatka suite of Kryvbass (the Ukrainian shield)
за авторством: G. V. Artemenko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: G. V. Artemenko, та інші
Опубліковано: (2018)
System of power supply with alternative energy sources: security of acoustic sources functioning
за авторством: G. I. Sokol, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: G. I. Sokol, та інші
Опубліковано: (2019)
Multi-charged ions source
за авторством: Glazunov, L.S., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Glazunov, L.S., та інші
Опубліковано: (2011)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Influence high energy proton irradiation on structure and stress-strein state ion-plasma coating quasi-binary system TIC-WC
за авторством: O. V. Sobol, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. V. Sobol, та інші
Опубліковано: (2014)
High number harmonic exitation by oscillators in periodic media and in periodic potential nonequilibrium electron distribution functions induced by fast ions in semiconductor plasma
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Zhurenko, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
ICP-MS analysis of bread wheat carrying the GPC-B1 gene of Triticum turgidum ssp. dicoccoides
за авторством: Yu. Pokhylko, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yu. Pokhylko, та інші
Опубліковано: (2016)
Plasma potential correlations between heavy ion beam probe and langmuir probe on the Т-10 tokamak
за авторством: Zenin, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Zenin, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
The ion energy in a plasma resonator excited by a powerful microwave pulse at ECR frequency
за авторством: Antonov, A.N., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Antonov, A.N., та інші
Опубліковано: (2020)
Potential governmental and departmental regulations on the development of alternative energy sources
за авторством: I. V. Manzhul
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. V. Manzhul
Опубліковано: (2016)
Development of plasma methods for the synthesis of fullerenes
за авторством: V. G. Udovitskij, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. G. Udovitskij, та інші
Опубліковано: (2012)
The prototype of radioactive ion source
за авторством: Aleksandrov, A.V., та інші
Опубліковано: (2001)
за авторством: Aleksandrov, A.V., та інші
Опубліковано: (2001)
Gas hydrates of Black Sea – potential source of energy (analytical review)
за авторством: E. F. Shnjukov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: E. F. Shnjukov, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of HF discharge on plasma parameters of gas source with incandescent cathode
за авторством: Shariy, S.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Shariy, S.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Ion density fluctuations in liquid metals: the strongly interacting ion-electron plasma
за авторством: Bove, L.E., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bove, L.E., та інші
Опубліковано: (2008)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Схожі ресурси
-
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006) -
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002) -
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)