Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
Збережено в:
| Дата: | 2005 |
|---|---|
| Автори: | V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, G. Renar, V. Kasan |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2005
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000859333 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)
Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004)
Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)
Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
Simulation of the ignition of alow pressure rf capacitive discharge
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. A. Lisovskiy, та інші
Опубліковано: (2003)
Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)
Low frequency oscillations in U-2M conditioning RF discharges
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dreval, M.B., та інші
Опубліковано: (2018)
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Application of electrode-driven shear flows for improved plasma confinement
за авторством: Beklemishev, A.D., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Beklemishev, A.D., та інші
Опубліковано: (2010)
Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)
Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)
Plasma parameters evolution during conditioning RF discharges in Uragan-2M torsatron
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)
Investigation of the characteristics of an image converter in a hyperfine gas-discharge cell with a semiconductor electrode
за авторством: Kh. T. Juldashev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Kh. T. Juldashev, та інші
Опубліковано: (2015)
Investigation of a hyperfine gas-discharge cell with a platinum alloy silicon semiconductor electrode
за авторством: Z. Khajdarov
Опубліковано: (2011)
за авторством: Z. Khajdarov
Опубліковано: (2011)
Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Photoelectric phenomena in the hyperfine (3-20 μm) gap gas discharge with a semiconductor electrode
за авторством: Z. Khajdarov, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Z. Khajdarov, та інші
Опубліковано: (2015)
Building up the Mechanism to Manage Foreign Technology Transfer for Innovation-Driven Economic Development in Ukraine
за авторством: O. B. Salikhova, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: O. B. Salikhova, та інші
Опубліковано: (2016)
Characteristics of the nanosecond overvoltage discharge between CuInSe2 chalcopyrite electrodes in oxygen-free gas media
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
Characteristics of the nanosecond overvoltage discharge between CuInSe2 chalcopyrite electrodes in oxygen-free gas media
за авторством: A. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2020)
Rf mems switches
за авторством: V. N. Shoffa, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. N. Shoffa, та інші
Опубліковано: (2014)
Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2017)
Experimental observation of induced stochastic transitions in multiwell potential of RF SQUID loop
за авторством: O. G. Turutanov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. G. Turutanov, та інші
Опубліковано: (2014)
Plasma of arc discharge between melting Cu- and Ni-electrodes
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Veklich, A.N., та інші
Опубліковано: (2018)
Ethno cultural dialog about the tolerant international relations set up
за авторством: O. Kalakura
Опубліковано: (2010)
за авторством: O. Kalakura
Опубліковано: (2010)
Determining the rotational velocity of gas-metal multicomponent plasma in a reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Electric arc discharge between brass electrodes: peculiarities of plasma spectroscopy and change in the microstructure of working electrode layers
за авторством: I. L. Babich, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: I. L. Babich, та інші
Опубліковано: (2014)
Peculiarities of electric arc discharge between composite electrodes Cu-C
за авторством: A. M. Veklych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: A. M. Veklych, та інші
Опубліковано: (2016)
Dynamical and macroscopic descriptions of the strongly driven gas medium of interacting atoms
за авторством: A. S. Sizhuk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. S. Sizhuk, та інші
Опубліковано: (2012)
Dynamical and macroscopic descriptions of the strongly driven gas medium of interacting atoms
за авторством: A. S. Sizhuk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. S. Sizhuk, та інші
Опубліковано: (2012)
Parameters of nanosecond overvoltage discharge plasma in a narrow air gap between the electrodes containing electrode material vapor
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2018)
Parameters of nanosecond overvoltage discharge plasma in a narrow air gap between the electrodes containing electrode material vapor
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: O. K. Shuaibov, та інші
Опубліковано: (2018)
Application of decomposition algorithms to speed up processing of large data sets in GIS
за авторством: I. Kotuliak, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: I. Kotuliak, та інші
Опубліковано: (2022)
UPE-500 complex for determining welding and technological characteristics of coated electrodes
за авторством: O. M. Kostin, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: O. M. Kostin, та інші
Опубліковано: (2021)
EXPERIMENTAL INVESTIGATION OF ELECTRICAL DISCHARGE IN LIQUID INITIATED BETWEEN CONE CHANNEL ELECTRODES
за авторством: Ozerov, A. N., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Ozerov, A. N., та інші
Опубліковано: (2013)
The grounds of setting up of Ukrainian stategood in the events of XX century: historical-political context
за авторством: A. D. Pakhariev
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pakhariev
Опубліковано: (2012)
Modeling of gas discharge in water vapor
за авторством: A. A. General, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: A. A. General, та інші
Опубліковано: (2013)
Схожі ресурси
-
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004) -
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006) -
Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004) -
Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)