Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up
Збережено в:
Дата: | 2005 |
---|---|
Автори: | V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, G. Renar, V. Kasan |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2005
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000859333 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004) -
Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006) -
Characteristic properties of the three-half-turn-antenna-driven RF discharge in the Uragan-3M torsatron
за авторством: Chechkin, V.V., та інші
Опубліковано: (2014) -
Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004) -
Application of electrode-driven shear flows for improved plasma confinement
за авторством: Beklemishev, A.D., та інші
Опубліковано: (2010)