Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автор: | S. V. Dudin |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2009
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2014)
High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: I. V. Gorbov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: I. V. Gorbov, та інші
Опубліковано: (2014)
Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)
Spatial energy channelling and stochastization of fast ion motion by high-frequency plasma instabilities
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Tyshchenko, M.H., та інші
Опубліковано: (2015)
Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2012)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2012)
Corona discharge influence on micro-organisms
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
Ion–plasma deposition of the nanostructured multicom-ponent coatings on thermolabile materials
за авторством: L. S. Osipov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: L. S. Osipov, та інші
Опубліковано: (2014)
Synthesis of nanocarbon by high-frequency pulse discharge method
за авторством: L. Z. Boguslavskij, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: L. Z. Boguslavskij, та інші
Опубліковано: (2012)
Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
за авторством: Dudin, S.V.
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dudin, S.V.
Опубліковано: (2012)
Comparative analysis of the refraction of microwaves at different frequencies in an inhomogeneous plasma of a high power impulse reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2018)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Emission Characteristics of Nitrogen-Doped Nanostructure Diamond Coating Synthesized in Glow Discharge Plasma
за авторством: S. F. Dudnik, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: S. F. Dudnik, та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of ion viscosity on the distributions of plasma parameters in stationary gas discharge
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Ya. F. Leleko, та інші
Опубліковано: (2021)
Electrothermal energy saving unit for high-frequency induction heating
за авторством: A. K. Shydlovskyi, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. K. Shydlovskyi, та інші
Опубліковано: (2015)
REACTIVE POWER CONTROL IN MICRO-GRID NETWORKS USING ADAPTIVE CONTROL
за авторством: Moghayadniya, A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Moghayadniya, A., та інші
Опубліковано: (2019)
Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
за авторством: D. V. Rafalskij, та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: D. V. Rafalskij, та інші
Опубліковано: (2008)
Microwave high-resolution scanning heating in the technology of micro- and nanoelectronics
за авторством: Ju. E. Gordienko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Ju. E. Gordienko, та інші
Опубліковано: (2015)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
The induction and reactivation of diapause insects (practical and theoretical aspects)
за авторством: O. E. Strashko, та інші
Опубліковано: (1996)
за авторством: O. E. Strashko, та інші
Опубліковано: (1996)
Investigation of energy balance in the system of the crystal‒high-frequency heating module at plasma-induction growing of refractory metal single-crystals
за авторством: V. O. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: V. O. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2022)
Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals
за авторством: A. V. Sagalovich, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. V. Sagalovich, та інші
Опубліковано: (2014)
Micro- and nanostructuring of metal surfaces with polarized femtosecond laser pulses
за авторством: N. G. Zubrilin, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: N. G. Zubrilin, та інші
Опубліковано: (2017)
Measurement of dispersion of low-frequency ion oscillations in hybrid plasma waveguides
за авторством: Antipov, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Antipov, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)
AIR ATMOSPHERIC-PRESSURE DISCHARGERS FOR OPERATION IN HIGH-FREQUENCY SWITCHING MODE.
за авторством: Yevdoshenko, L. S.
Опубліковано: (2013)
за авторством: Yevdoshenko, L. S.
Опубліковано: (2013)
IMITATION MODEL OF A HIGH-SPEED INDUCTION MOTOR WITH FREQUENCY CONTROL
за авторством: Pliugin, V. E., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Pliugin, V. E., та інші
Опубліковано: (2017)
Series resonant inverters with modular structure for high-frequency induction heating
за авторством: Ya. Hutsaliuk
Опубліковано: (2022)
за авторством: Ya. Hutsaliuk
Опубліковано: (2022)
Analysis of characteristics of two-frequency (three-frequency) antennas with reactive loads
за авторством: V. V. Ovsjanikov
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Ovsjanikov
Опубліковано: (2017)
Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)
Formation of MeV energy ion beams with high current density for materials micro-irradiation
за авторством: Romanenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Romanenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2013)
Схожі ресурси
-
High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004) -
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014) -
Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006) -
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)