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Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2009
1. Verfasser:	S. V. Dudin
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2009
Schriftenreihe:	Physical surface engineering
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969
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