Development of technology for obtaining nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
Збережено в:
| Дата: | 2023 |
|---|---|
| Автори: | M. T. Normuradov, Sh. T. Khozhiev, K. T. Dovranov, X. T. Davranov, M. A. Davlatov, F. K. Khollokov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2023
|
| Назва видання: | Ukrainian journal of physics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001414168 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Development of a technology for the production of nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023)
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024)
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024)
Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Obtaining and observation of micro- and nano-size V₂O₅ structures
за авторством: Shevchuk, V.N., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Shevchuk, V.N., та інші
Опубліковано: (2010)
Obtaining and observation of micro- and nano-size V₂O₅ structures
за авторством: Shevchuk, V.N., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Shevchuk, V.N., та інші
Опубліковано: (2011)
SERS of dye film deposited onto gold nano-clusters
за авторством: Grytsenko, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Grytsenko, K., та інші
Опубліковано: (2010)
SERS of dye film deposited onto gold nano-clusters
за авторством: K. Grytsenko, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: K. Grytsenko, та інші
Опубліковано: (2010)
Nano-size phase formation at acoustically stimulated ion beam synthesis
за авторством: V. H. Lytovchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. H. Lytovchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Nano-size phase formation at acoustically stimulated ion beam synthesis
за авторством: V. G. Litovchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. G. Litovchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Nano-sized phase inclusions in As₂S₃ glass, films and fibers based on this glass
за авторством: Mateleshko, N., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Mateleshko, N., та інші
Опубліковано: (2004)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Preparation methods for nano-sized structures using films of chalcogenide glassy semiconductors
за авторством: Petrov, V. V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Petrov, V. V., та інші
Опубліковано: (2016)
Investigation of nitrogen distribution in samples obtained by ion-induced deposition of Cr film on aluminum under nitrogen ions bombardment
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003)
Distribution of chemical composition depth in Cr-O-N films obtained by the method ion-stimulated deposition
за авторством: A. N. Stervoedov
Опубліковано: (2009)
за авторством: A. N. Stervoedov
Опубліковано: (2009)
Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: A. P. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. P. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2015)
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015)
Water purification from heavy metal ions by nano-sized Fe0/kaolinite com posites
за авторством: I. A. Kovalchuk, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: I. A. Kovalchuk, та інші
Опубліковано: (2020)
Ion-plasma deposition of thin quasicrystalline Al-Cu-Fe and Al-Cu-Co films
за авторством: Ryabtsev, S.I., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Ryabtsev, S.I., та інші
Опубліковано: (2020)
Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Production of nano-pore track membranes based on PET films irradiated by Ar ions
за авторством: Bomko, V.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Bomko, V.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Nano-dispersed films deposited with pulsed laser spraying of Ni-Au combined targets
за авторством: A. G. Bagmut, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: A. G. Bagmut, та інші
Опубліковано: (2010)
Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
Multilayer film heterostructures. Silicides
за авторством: Sidorenko, S.I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Sidorenko, S.I., та інші
Опубліковано: (2009)
Electrophysical characteristics of large-size αSi-Si(Li) detector heterostructures
за авторством: Muminov, R.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Muminov, R.A., та інші
Опубліковано: (2012)
Electrophysical characteristics of large-size aSi-Si(Li) detector heterostructures
за авторством: R. A. Muminov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: R. A. Muminov, та інші
Опубліковано: (2012)
Characteristics of powder particle size of alloy obtained by centrifugal spraying plasma electrode
за авторством: Z. A. Duriahina, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Z. A. Duriahina, та інші
Опубліковано: (2017)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Factors causing the formation of amorphous-like and nano-crystalline structure state ion-plasma condensates
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
The technology of obtaining and studying heterostructural solar cells based on n-CdS/p-CdTe
за авторством: Sh. B. Karimov, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Sh. B. Karimov, та інші
Опубліковано: (2015)
CdS films on the porous substruction of Si obtained by chemical surface deposition
за авторством: A. F. Diadenchuk, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. F. Diadenchuk, та інші
Опубліковано: (2018)
Distribution of interstitial impurities in chromium coating, obtained by ion beam assisted deposition
за авторством: A. Guglya, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: A. Guglya, та інші
Опубліковано: (2003)
Distribution of interstitial impurities in chromium coating, obtained by ion beam assisted deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2003)
Adsorption of cis-dichlorodiamineplatinum complexes by nano-sized pyrogenic silica
за авторством: O. M. Kaminskyi, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: O. M. Kaminskyi, та інші
Опубліковано: (2013)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Soncentration and structure ordering in ion-plasma (W, Ti)C solid solution nano-crystalline condensates
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2007)
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2007)
Схожі ресурси
-
Development of a technology for the production of nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023) -
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024) -
Formation of Mn4Si7/Si(111), CrSi2/Si(111), and CoSi2/Si(111) thin film and evaluation of their optically direct and indirect band gap
за авторством: K. T. Dovranov, та інші
Опубліковано: (2024) -
Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005) -
Obtaining and observation of micro- and nano-size V₂O₅ structures
за авторством: Shevchuk, V.N., та інші
Опубліковано: (2010)