Bilanych, B. V., Shylenko, O., Latyshev, V. M., Feher, A., Bilanych, V. S., Rizak, V. M., & Komanicky, V. (2020). Interaction of chalcogenide As4Se96 films with electron beam when used as electronic resists.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Bilanych, B. V., O. Shylenko, V. M. Latyshev, A. Feher, V. S. Bilanych, V. M. Rizak, та V. Komanicky. Interaction of Chalcogenide As4Se96 Films with Electron Beam When Used as Electronic Resists. 2020.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Bilanych, B. V., et al. Interaction of Chalcogenide As4Se96 Films with Electron Beam When Used as Electronic Resists. 2020.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.