Coupling effects of CH4/H2/Ar gas ratios and hot filament-substrate distance on the growth of nanocrystalline diamond
Збережено в:
| Дата: | 2020 |
|---|---|
| Автори: | B. Deng, Ts. Vej, M. Ji, I. Luo, L. Li, K. Chzhou, L. Ma |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2020
|
| Назва видання: | Superhard Materials |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001130384 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma
за авторством: Vyrovets, I.I., та інші
Опубліковано: (2009) -
Desorption of excited H* atoms from free clusters Ar/CH4 and solid Ar doped with CH4
за авторством: Yu. S. Doronin, та інші
Опубліковано: (2021) -
Effects of carbonization of filaments on CVD diamond thick films prepared by HFCVD method
за авторством: Fuming Deng, та інші
Опубліковано: (2020) -
Influence of ratio between inoculum and organic substrate on the yield of biogas
за авторством: H. O. Chetveryk, та інші
Опубліковано: (2021) -
INFLUENCE OF RATIO BETWEEN INOCULUM AND ORGANIC SUBSTRATE ON THE YIELD OF BIOGAS
за авторством: Chetveryk, H., та інші
Опубліковано: (2021)