Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автори: | A. I. Kuzmichev, A. I. Ustinov, A. E. Rudenko, I. M. Drozd |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2019
|
| Назва видання: | Electrometallurgy Today |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001079866 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018) -
Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014) -
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011) -
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)