Зображення обкладинки

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2019
Автори:	A. A. Onoprienko, V. I. Ivashchenko, A. O. Kozak, A. K. Sinelnichenko, T. V. Tomila
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2019
Назва видання:	Superhard Materials
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001294418
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

The influence of B3Si on the structure and properties of B4C ceramics
за авторством: P. V. Mazur, та інші
Опубліковано: (2023)

Partial quasibinary eutectic in the system B4C−SiC
за авторством: D. A. Zakarjan
Опубліковано: (2015)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Частичная квазибинарная эвтектика в системе B₄C−SiC
за авторством: Закарян, Д.А.
Опубліковано: (2015)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Structure and phase composition of ZrB2-SiC-AlN plasma coatings on the surfae of C/C-SiC composite materials
за авторством: Ju. S. Borisov, та інші
Опубліковано: (2019)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)

Первопринципный расчет оптических спектров кристаллообразующих кластеров C₄₈, B₂₄N₂₄, Si₂₄C₂₄
за авторством: Овсянникова, Л.И., та інші
Опубліковано: (2008)

Directionally a crystallized ternary eutectic composite of the B4C–TaB2–SiC system
за авторством: M. I. Upatov, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Structure and properties of sputtered powder of the eutectic B4C – TiB2 alloy
за авторством: P. I. Loboda, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and properties of directionally solidified alloy of B4–NbB2–SiC system
за авторством: M. I. Upatov, та інші
Опубліковано: (2020)

Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)

The sputtering of silicon and carbon targets by accelerated ion by the fullerene C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)

Coatings properties Cr-Si-B-MgC2 in high conditions temperatures
за авторством: V. V. Shchepetov, та інші
Опубліковано: (2022)

Coatings properties Cr-Si-B-MgC2 in high conditions temperatures
за авторством: Shchepetov , Vitalii, та інші
Опубліковано: (2022)

Intrinsic defects in nonstoichiometric b-SiC nanoparticles studied by pulsed magnetic resonance methods
за авторством: D. V. Savchenko, та інші
Опубліковано: (2010)

Flux pinning and vortex dynamics in MgB₂ doped with TiO₂ and SiC inclusions
за авторством: Prokhorov, V.G., та інші
Опубліковано: (2009)

Atomic and electronic structure of a-SiC
за авторством: Ivashchenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2002)

Reaction 14C(11B, 12C)13B at Elab(11B) = 45 MeV, interaction of 13B + 12C versus that of 10,11,12B + 12C
за авторством: Yu. Mezhevych, та інші
Опубліковано: (2022)

Дослідження контактної взаємодії TiB2—SiC зі сплавами Ni—Cr
за авторством: Уманський, О.П., та інші
Опубліковано: (2008)

Властивості покриттів Cr–Si–B–MgC2 в умовах підвищенних температур
за авторством: Shchepetov , Vitalii, та інші
Опубліковано: (2022)