Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | A. A. Onoprienko, V. I. Ivashchenko, A. O. Kozak, A. K. Sinelnichenko, T. V. Tomila |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2019
|
Назва видання: | Superhard Materials |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001294418 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2019) -
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015) -
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020) -
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)