External-electric-field-enhanced uniformity and deposition rate of a TiO2 film prepared by the sparking process
Gespeichert in:
| Datum: | 2018 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | W. Thongpan, T. Kumpika, E. Kantarak, A. Panthawan, P. Pooseekheaw, P. Singjai, W. Thongsuwan, A. Tuantranont |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
2018
|
| Schriftenreihe: | Ukrainian Journal of Physics |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000883392 |
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| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
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