The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method

• Дата: 2017
• Автори: A. I. Ievtushenko, M. G. Dusheyko, V. A. Karpyna, O. I. Bykov, P. M. Lytvyn, O. I. Olifan, V. A. Levchenko, A. A. Korchovyi, S. P. Starik, S. V. Tkach, E. F. Kuzmenko, G. V. Lashkarev
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: 2017
• Назва видання: Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
• Онлайн доступ: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000778507
• Назва журналу: Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS