The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
Gespeichert in:
| Datum: | 2017 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | A. I. Ievtushenko, M. G. Dusheyko, V. A. Karpyna, O. I. Bykov, P. M. Lytvyn, O. I. Olifan, V. A. Levchenko, A. A. Korchovyi, S. P. Starik, S. V. Tkach, E. F. Kuzmenko, G. V. Lashkarev |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
2017
|
| Schriftenreihe: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000778507 |
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