Зображення обкладинки

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2017
Автори:	A. I. Ievtushenko, M. G. Dusheyko, V. A. Karpyna, O. I. Bykov, P. M. Lytvyn, O. I. Olifan, V. A. Levchenko, A. A. Korchovyi, S. P. Starik, S. V. Tkach, E. F. Kuzmenko, G. V. Lashkarev
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2017
Назва видання:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000778507
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

The Effect of Ag-Doping on the Cytotoxicity of ZnO Nanostructures Grown on Ag/Si Substrates by APMOCVD
за авторством: K. S. Naumenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Effect of electron-beam treatment of sensor glass substrates for SPR devices on their metrological characteristics
за авторством: V. A. Vashchenko, та інші
Опубліковано: (2019)

Wave equation solution for multilayer planar waveguides in a spatial frequency domain
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)

Effect of electron-beam treatment of sensor glass substrates for SPR devices on their metrological characteristics
за авторством: Vashchenko, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)

Formation of Stationary Surface Structures During Ion Beam Sputtering
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Structure and fluorescence of ZnWO₄ films prepared by ion beam sputtering
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)

Structural and optical properties of Zn1-xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2011)

Reactive ion-beam synthesis of thin films directly from ion biam
за авторством: K. A. Valiev, та інші
Опубліковано: (2003)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)

Властивості конгломератів ZnO-Zn, вирощених на неполірованій підкладці Si методом карботермічного відновлення при швидкому сонячному випаровуванні
за авторством: Kovalskyi, Y.O., та інші
Опубліковано: (2026)

Dielectric, ferroelectric and piezoelectric properties of sputtered PZT thin films on Si substrates: influence of film thickness and orientation
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)

Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)