The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2017
Автори:	A. I. Ievtushenko, M. G. Dusheyko, V. A. Karpyna, O. I. Bykov, P. M. Lytvyn, O. I. Olifan, V. A. Levchenko, A. A. Korchovyi, S. P. Starik, S. V. Tkach, E. F. Kuzmenko, G. V. Lashkarev
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2017
Назва видання:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000778507
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2005)

The Effect of Ag-Doping on the Cytotoxicity of ZnO Nanostructures Grown on Ag/Si Substrates by APMOCVD
за авторством: K. S. Naumenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different sputtering power
за авторством: Myroniuk, D.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Wave equation solution for multilayer planar waveguides in a spatial frequency domain
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Structure of tantalum diboride thin films deposited by RF-magnetron sputtering
за авторством: Konovalov, V.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Phase formation and crystallization of films deposited by pulse laser sputtering of chromium in oxygen atmosphere
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Morphology of sulphur-terminated compound deposits condensed on different substrates in vacuum
за авторством: K. P. Grytsenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Morphology of sulphur-terminated compound deposits condensed on different substrates in vacuum
за авторством: Grytsenko, K.P., та інші
Опубліковано: (2015)

Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Properties of the hydroxyapatite coatings obtained by gas-detonation deposition onto titanium substrates
за авторством: Klyui, N.I., та інші
Опубліковано: (2010)

Properties of the hydroxyapatite coatings obtained by gas-detonation deposition onto titanium substrates
за авторством: Klyui, N.I., та інші
Опубліковано: (2011)

Structural and optical properties of Zn1-xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals
за авторством: A. V. Sagalovich, та інші
Опубліковано: (2014)

Modeling of the substrate cooling system in the installation for the deposition of coatings by the gas plasma method
за авторством: Martynov, S.O., та інші
Опубліковано: (2023)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)