Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
Збережено в:
| Дата: | 2017 |
|---|---|
| Автори: | V. V. Gladkovskij, O. A. Fedorovich |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2017
|
| Назва видання: | Technology and design in electronic equipment |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000798647 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
“String” type of barrierless plasma chemical reactor for generation ozone from air
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kudin, D.V., та інші
Опубліковано: (2021)
On the critical behaviour of random anisotropy magnets: cubic anisotropy
за авторством: Dudka, M., та інші
Опубліковано: (2001)
за авторством: Dudka, M., та інші
Опубліковано: (2001)
Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Precision control system for a continuous chemical reactor
за авторством: A. A. Stopakevich, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Stopakevich, та інші
Опубліковано: (2019)
Analysis of the structural-chemical state and classificationof oxide and metal phases of the silicon−calcium−barium−oxygen system. Silicocalcium alloys. Report 2
за авторством: B. F. Belov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: B. F. Belov, та інші
Опубліковано: (2018)
Investigations of short range ordering in Fe-(5-6)% (at.) Si single crystals with diffusive magnetic anisotropy
за авторством: Serikov, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Serikov, V.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Local magnetic anisotropy of the Co-based amorphous alloy
за авторством: Z. I. Sizova, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Z. I. Sizova, та інші
Опубліковано: (2019)
Local magnetic anisotropy of the Co-based amorphous alloy
за авторством: Z. I. Syzova, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Z. I. Syzova, та інші
Опубліковано: (2019)
Hysteresis of films with perpendicular anisotropy in an inclined magnetic field
за авторством: S. M. Rjabchenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: S. M. Rjabchenko, та інші
Опубліковано: (2017)
Dependence of the anisotropy parameter of drag thermo-emf on the impurity concentration in the n-type germanium and silicon crystals
за авторством: G. P. Gaidar, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: G. P. Gaidar, та інші
Опубліковано: (2017)
Diagnostics of hydrogen-oxygen plasma jet for application in gas thermal spraying
за авторством: Yu. S. Popil, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Yu. S. Popil, та інші
Опубліковано: (2020)
Influence of mechanical stresses on the signal of eddy current transducer of magnetic anisotropy
за авторством: V. M. Uchanin, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: V. M. Uchanin, та інші
Опубліковано: (2018)
Magnetism and anisotropy of magnetic susceptibility of gabbroids of the Volodarsk-Volynskyi massif of the Korosten pluton of the Ukrainian Shield
за авторством: Bakhmutov, Volodymyr, та інші
Опубліковано: (2025)
за авторством: Bakhmutov, Volodymyr, та інші
Опубліковано: (2025)
Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)
Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)
Plasma reactor for the coal dust burner of power plant boiler TPP-210
за авторством: V. I. Emeljanenko
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. I. Emeljanenko
Опубліковано: (2017)
Magnetization and magnetocaloric effect in antiferromagnets with competing Ising exchange and single-ion anisotropies
за авторством: V. M. Kalyta, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Kalyta, та інші
Опубліковано: (2020)
Magnetization and magnetocaloric effect in antiferromagnets with competing Ising exchange and single-ion anisotropies
за авторством: V. M. Kalita, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Kalita, та інші
Опубліковано: (2020)
Effect of the exchange interaction anisotropy on the magnetic quantum phase transitions in dimerized antiferromagnets
за авторством: T. I. Ljashenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: T. I. Ljashenko, та інші
Опубліковано: (2017)
Investigations of the deep-level parameters in semiconductors
за авторством: I. G. Tursunov
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. G. Tursunov
Опубліковано: (2017)
Investigations of the deep-level parameters in semiconductors
за авторством: I. G. Tursunov
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. G. Tursunov
Опубліковано: (2017)
Analysis of the structural-chemical state and classification of oxide and metal phases of the silicon-barium-oxygen system.The polygonal diagram of the state of the SiO2−CaO−BaO system. Report 1.
за авторством: B. F. Belov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: B. F. Belov, та інші
Опубліковано: (2018)
Plasma-Chemical Process Control of Water Purification from Persistent Organic Pollution
за авторством: S. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: S. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2019)
On the energy spectrum and thermodynamics of decorated quasi-one-dimensional magnetic systems with uniaxial anisotropy
за авторством: E. V. Ezerskaya
Опубліковано: (2021)
за авторством: E. V. Ezerskaya
Опубліковано: (2021)
Magnetic anisotropy in Fe phthalocyanine film deposited on Si(110) substrate: standing configuration
за авторством: Bartolomé, J., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Bartolomé, J., та інші
Опубліковано: (2017)
Singular optics of spin waves in a two-sublattice antiferromagnet with uniaxial magnetic anisotropy
за авторством: Ju. I. Gorobets, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ju. I. Gorobets, та інші
Опубліковано: (2017)
Macroscopic quantum effects in domain boundaries of the uniaxial ferromagnetic films with the strong magnetic anisotropy
за авторством: A. B. Shevchenko
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. B. Shevchenko
Опубліковано: (2018)
Magnetic anisotropy in Fe phthalocyanine film deposited on Si(110) substrate: standing configuration
за авторством: J. Bartolomй, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: J. Bartolomй, та інші
Опубліковано: (2017)
Lifetime of electrons in dense plasma
за авторством: O. A. Fedorovich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. A. Fedorovich, та інші
Опубліковано: (2017)
Investigation of the Electrolysis Process of Obtaining Hydrogen and Oxygen with Serial and Parallel Connection of Electrons
за авторством: Shevchenko, Andrii A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Shevchenko, Andrii A., та інші
Опубліковано: (2021)
Investigation of the Electrolysis Process of Obtaining Hydrogen and Oxygen with Serial and Parallel Connection of Electrons
за авторством: Shevchenko, Andrii A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Shevchenko, Andrii A., та інші
Опубліковано: (2021)
Investigation of the Electrolysis Process of Obtaining Hydrogen and Oxygen with Serial and Parallel Connection of Electrons
за авторством: A. A. Shevchenko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. A. Shevchenko, та інші
Опубліковано: (2020)
Study of changes in the structural and chemical composition of periclase-carbonate refractories in the process of operation as the lining of oxygen converters
за авторством: L. S. Molchanov, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: L. S. Molchanov, та інші
Опубліковано: (2022)
Схожі ресурси
-
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017) -
Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017) -
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024) -
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010) -
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)