Deng, F., Hao, C., Guo, Z., Wang, S., Bo, X., & Lei, Q. (2021). Simulation study on airflow field uniformity of HFCVD deposition system by filament spacing.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Deng, F., C. Hao, Zh Guo, Sh Wang, X. Bo, та Q. Lei. Simulation Study on Airflow Field Uniformity of HFCVD Deposition System by Filament Spacing. 2021.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Deng, F., et al. Simulation Study on Airflow Field Uniformity of HFCVD Deposition System by Filament Spacing. 2021.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.