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Simulation study on airflow field uniformity of HFCVD deposition system by filament spacing

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2021
Hauptverfasser:	F. Deng, C. Hao, Zh. Guo, Sh. Wang, X. Bo, Q. Lei
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2021
Schriftenreihe:	Superhard Materials
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001235610
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