Hard plasmachemical a-SiCN coatings
Збережено в:
| Дата: | 2016 |
|---|---|
| Автори: | O. K. Porada, A. O. Kozak, V. I. Ivashchenko, S. M. Dub, H. M. Tolmacheva |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2016
|
| Назва видання: | Superhard Materials |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000692820 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
за авторством: Порада, О.К., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Порада, О.К., та інші
Опубліковано: (2016)
Електричні та фотоелектричні властивості гетеропереходів a-SiCN/c-Si
за авторством: Сукач, А.В., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Сукач, А.В., та інші
Опубліковано: (2013)
Electrical and photoelectrical properties of a-SICN/c-SI heterojunctions
за авторством: A. V. Sukach, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: A. V. Sukach, та інші
Опубліковано: (2013)
Влияние отжига на структуру и механические свойства плазмохимических SiCN-пленок из гексаметилдисилазана
за авторством: Порада, А.К., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Порада, А.К., та інші
Опубліковано: (2010)
Erosion processes in combined plasmachemical reactors
за авторством: L. T. Kholjavchenko, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: L. T. Kholjavchenko, та інші
Опубліковано: (2014)
Plasmachemical Plant for Npp Drain Water Treatment
за авторством: Yu. L. Zabulonov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. L. Zabulonov, та інші
Опубліковано: (2018)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Kinetics of plasmachemical processes in barrier discharge on ambient air
за авторством: Soloshenko, I.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Soloshenko, I.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
Properties of carbonitride coatings of the TiCN system, processed by vacuum ARC deposition
за авторством: S. A. Klymenko, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: S. A. Klymenko, та інші
Опубліковано: (2024)
Effect of deposition parameters on microstructure and tribological properties of hard CA-PVD multi-component TiAlCrN and TiAlCrCN coatings
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Influence of N2 partial pressure on the microstructure, hardness, and thermal stability of CrZrSiN nanocomposite coatings
за авторством: K. S. Kim, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: K. S. Kim, та інші
Опубліковано: (2016)
Structure features and properties of hard Ti-Al-N and superhard Ti-Si-N nanocomposite coatings deposited using PVD in HF discharge
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2008)
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films
за авторством: O. K. Porada
Опубліковано: (2015)
за авторством: O. K. Porada
Опубліковано: (2015)
Properties of a composite multilayered hard coating Zr–ZrN
за авторством: V. F. Gorban, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. F. Gorban, та інші
Опубліковано: (2017)
N - Ti - Al coatings on steels and hard alloys
за авторством: V. H. Khyzhniak, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. H. Khyzhniak, та інші
Опубліковано: (2016)
Comparative nanoindentation of single crystals of hard and superhard oxides
за авторством: S. N. Dub, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: S. N. Dub, та інші
Опубліковано: (2014)
Improvement of the functional characteristics of the coatings obtained by the method of hard anodizing of aluminum
за авторством: M. M. Student, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: M. M. Student, та інші
Опубліковано: (2020)
Procedure of the multiple indentations for determination of the hardness parameters of structurally heterogeneous materials
за авторством: V. I. Kushch, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. I. Kushch, та інші
Опубліковано: (2015)
Structure and mechanical properties of Ti–Al–Si–N protective coatings deposited from separated plasma of a vacuum arc
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2013)
Electrodeposition of very hard coatings of cobalt–molybdenum alloy
за авторством: V. V. Shtefan, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. V. Shtefan, та інші
Опубліковано: (2017)
On the units of integral group ring of Cn×C₆
за авторством: Küsmüş, Ö.
Опубліковано: (2015)
за авторством: Küsmüş, Ö.
Опубліковано: (2015)
On the units of integral group ring of Cn × C₆
за авторством: Küsmüş, Ö.
Опубліковано: (2015)
за авторством: Küsmüş, Ö.
Опубліковано: (2015)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
Production of vacuum-arc high-hard Mo-N coatings
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2011)
Isolation of к-CN-1P and в-CN-5R fractions from native casein micelles
за авторством: V. G. Yukalo, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: V. G. Yukalo, та інші
Опубліковано: (2018)
High-temperature hardness of multilayer metal–metal nitride vacuum-arc coatings
за авторством: V. F. Horban, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: V. F. Horban, та інші
Опубліковано: (2021)
On the units of integral group ring of Cn Ч C6
за авторством: O. Kusmus
Опубліковано: (2015)
за авторством: O. Kusmus
Опубліковано: (2015)
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films
за авторством: Nakonechna, O.I., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Nakonechna, O.I., та інші
Опубліковано: (2004)
Mechanical properties of Tin + 1AlCn nanolaminates: a molecular dynamics study
за авторством: V. M. Borysiuk
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Borysiuk
Опубліковано: (2020)
Structure and properties of solid coatings of systems (Ti-Zr-Si)N and (Ti-Hf-Si)N obtained from the flows of metallic plasma
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2010)
The use of powder cathodes for the deposition of Ti-Si-N coatings from a filtered vacuum arc plasma
за авторством: V. V. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. V. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2015)
Elasticity module and hardness of niobium and tantalum anode oxide films
за авторством: Dub, S.N., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Dub, S.N., та інші
Опубліковано: (2007)
Tableau Formulas for One-Row Macdonald Polynomials of Types Cn and Dn
за авторством: Feigin, B., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Feigin, B., та інші
Опубліковано: (2015)
Некоторые контурно-телесные свойства голоморфных функций в Cⁿ
за авторством: Щехорский, А.И.
Опубліковано: (1983)
за авторством: Щехорский, А.И.
Опубліковано: (1983)
Mechanical properties of Tin+1AlCn nanolaminates: a molecular dynamics study
за авторством: V. Borysiuk
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. Borysiuk
Опубліковано: (2020)
Micro- and nanoindentation of pyrolytic carbide-chrome coatings
за авторством: S. A. Krokhmal, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: S. A. Krokhmal, та інші
Опубліковано: (2011)
Оценка снизу площади аналитической кривой в кубе пространства Cⁿ
за авторством: Ронкин, Л.И.
Опубліковано: (1993)
за авторством: Ронкин, Л.И.
Опубліковано: (1993)
Схожі ресурси
-
Тверді плазмохімічні a-SiCN-покриття
за авторством: Порада, О.К., та інші
Опубліковано: (2016) -
Електричні та фотоелектричні властивості гетеропереходів a-SiCN/c-Si
за авторством: Сукач, А.В., та інші
Опубліковано: (2013) -
Electrical and photoelectrical properties of a-SICN/c-SI heterojunctions
за авторством: A. V. Sukach, та інші
Опубліковано: (2013) -
Влияние отжига на структуру и механические свойства плазмохимических SiCN-пленок из гексаметилдисилазана
за авторством: Порада, А.К., та інші
Опубліковано: (2010) -
Erosion processes in combined plasmachemical reactors
за авторством: L. T. Kholjavchenko, та інші
Опубліковано: (2014)