Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering

• Дата: 2016
• Автори: V. I. Popovych, A. I. Ievtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romanjuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, O. Y. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. G. Dushejko, V. A. Karpyna, G. V. Lashkarov
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: 2016
• Назва видання: Ukrainian journal of physics
• Онлайн доступ: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000727569
• Назва журналу: Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS