Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2016
Автори:	V. I. Popovych, A. I. Ievtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romanjuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, O. Y. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. G. Dushejko, V. A. Karpyna, G. V. Lashkarov
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2016
Назва видання:	Ukrainian journal of physics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000727569
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Structure of tantalum diboride thin films deposited by RF-magnetron sputtering
за авторством: Konovalov, V.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)

ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi
за авторством: Popovych, V. I., та інші
Опубліковано: (2019)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

IR spectroscopic study of thin ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: Ye. F. Venher, та інші
Опубліковано: (2016)

Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)

Diode structures and electrical properties of ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: T. V. Semikina
Опубліковано: (2016)

Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

IR Spectroscopic Study of Thin ZnO Films Grown Using the Atomic Layer Deposition Method
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2016)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different sputtering power
за авторством: Myroniuk, D.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Seismic response of a layered soil deposit with inclusions
за авторством: O. V. Kendzera, та інші
Опубліковано: (2021)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Deposition of carbon nanotubes' layer on surface of reactor alloys
за авторством: S. S. Chuprov, та інші
Опубліковано: (2012)

The influence of phase composition of deposited layers of hydrocylinder rods on their local corrosion
за авторством: A. A. Holiakevych, та інші
Опубліковано: (2014)

Optical and structure characteristics of vacuum-deposited layers
за авторством: Drobyshev, A.S.
Опубліковано: (1996)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Modeling the technology of deposition of a layer of variable chemical composition
за авторством: V. P. Ivanov, та інші
Опубліковано: (2019)