Зображення обкладинки

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2016
Автори:	V. I. Popovych, A. I. Yevtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romaniuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, Ye. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. H. Dusheiko, V. A. Karpyna, H. V. Lashkarov
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2016
Назва видання:	Ukrainian Journal of Physics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000732262
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)

ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)

Diode structures and electrical properties of ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: T. V. Semikina
Опубліковано: (2016)

IR spectroscopic study of thin ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: Ye. F. Venher, та інші
Опубліковано: (2016)

IR Spectroscopic Study of Thin ZnO Films Grown Using the Atomic Layer Deposition Method
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2016)

Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Seismic response of a layered soil deposit with inclusions
за авторством: O. V. Kendzera, та інші
Опубліковано: (2021)

Seismic response of a layered soil deposit with inclusions
за авторством: Kendzera, O.V., та інші
Опубліковано: (2021)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)

The influence of phase composition of deposited layers of hydrocylinder rods on their local corrosion
за авторством: A. A. Holiakevych, та інші
Опубліковано: (2014)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2015)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)

Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)

Modeling the technology of deposition of a layer of variable chemical composition
за авторством: V. P. Ivanov, та інші
Опубліковано: (2019)

Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Effect of technological schemes of induction surfacing on stability of deposited layer thickness
за авторством: Ch. V. Pulka, та інші
Опубліковано: (2013)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Deposition of carbon nanotubes&#039; layer on surface of reactor alloys
за авторством: S. S. Chuprov, та інші
Опубліковано: (2012)