Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
Збережено в:
| Дата: | 2016 |
|---|---|
| Автори: | V. I. Popovych, A. I. Yevtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romaniuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, Ye. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. H. Dusheiko, V. A. Karpyna, H. V. Lashkarov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2016
|
| Назва видання: | Ukrainian Journal of Physics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000732262 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)
ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)
ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
IR Spectroscopic Study of Thin ZnO Films Grown Using the Atomic Layer Deposition Method
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2016)
Diode structures and electrical properties of ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: T. V. Semikina
Опубліковано: (2016)
за авторством: T. V. Semikina
Опубліковано: (2016)
IR spectroscopic study of thin ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: Ye. F. Venher, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ye. F. Venher, та інші
Опубліковано: (2016)
Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)
Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Seismic response of a layered soil deposit with inclusions
за авторством: O. V. Kendzera, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: O. V. Kendzera, та інші
Опубліковано: (2021)
The influence of phase composition of deposited layers of hydrocylinder rods on their local corrosion
за авторством: A. A. Holiakevych, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Holiakevych, та інші
Опубліковано: (2014)
Seismic response of a layered soil deposit with inclusions
за авторством: Kendzera, O.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Kendzera, O.V., та інші
Опубліковано: (2021)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
Optical and structure characteristics of vacuum-deposited layers
за авторством: Drobyshev, A.S.
Опубліковано: (1996)
за авторством: Drobyshev, A.S.
Опубліковано: (1996)
Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Influence of X-ray irradiation on the optical absorption edge and refractive index dispersion in Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
Deposition of carbon nanotubes' layer on surface of reactor alloys
за авторством: S. S. Chuprov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: S. S. Chuprov, та інші
Опубліковано: (2012)
Modeling the technology of deposition of a layer of variable chemical composition
за авторством: V. P. Ivanov, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: V. P. Ivanov, та інші
Опубліковано: (2019)
Structure, morphology, and photoluminescence of vacuum deposited rubrene thin layers
за авторством: R. Fedorovych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: R. Fedorovych, та інші
Опубліковано: (2016)
Structure, morphology, and photoluminescence of vacuum deposited rubrene thin layers
за авторством: R. Fedorovych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: R. Fedorovych, та інші
Опубліковано: (2016)
Effect of technological schemes of induction surfacing on stability of deposited layer thickness
за авторством: Ch. V. Pulka, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Ch. V. Pulka, та інші
Опубліковано: (2013)
Схожі ресурси
-
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016) -
ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012) -
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)