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Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2016
Hauptverfasser:	V. I. Popovych, A. I. Yevtushenko, O. S. Lytvyn, V. R. Romaniuk, V. M. Tkach, V. A. Baturyn, Ye. Karpenko, M. V. Dranchuk, L. O. Klochkov, M. H. Dusheiko, V. A. Karpyna, H. V. Lashkarov
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2016
Schriftenreihe:	Ukrainian Journal of Physics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000732262
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