Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films
Збережено в:
| Дата: | 2015 |
|---|---|
| Автор: | O. K. Porada |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2015
|
| Назва видання: | Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454323 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Evaluation of materials nanohardness by the spheroconical indenter
за авторством: V. I. Moshchenok, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. I. Moshchenok, та інші
Опубліковано: (2017)
Study of postimplantation annealing of SiC
за авторством: Avramenko, S.F., та інші
Опубліковано: (2001)
за авторством: Avramenko, S.F., та інші
Опубліковано: (2001)
The growth of Sb₂S₃ crystals with bend lattice during amorphous films annealing and condensation
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013)
Thin dysprosium oxide films formed by rapid thermal annealing on porous SiC substrates
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
Thin dysprosium oxide films formed by rapid thermal annealing on porous SiC substrates
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
Comparison of properties inherent to thin titanium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC and porous SiC substrates
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
Comparison of properties inherent to thin titanium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC and porous SiC substrates
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
Elastic Modulus and Nanohardness of Non-Work-Hardened Palladium Hydride
за авторством: M. V. Goltsova, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. V. Goltsova, та інші
Опубліковано: (2015)
Transformation of SiOx films into nanocomposite SiO2(Si) films under thermal and laser annealing
за авторством: O. V. Steblova, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. V. Steblova, та інші
Опубліковано: (2014)
Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
за авторством: Zhuravel, I.O., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Zhuravel, I.O., та інші
Опубліковано: (2012)
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
за авторством: I. O. Zhuravel, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: I. O. Zhuravel, та інші
Опубліковано: (2012)
Optical studies of as-deposited and annealed Cu₇GeS₅I thin films
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films
за авторством: O. O. Gavrylyuk
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk
Опубліковано: (2014)
The influence of the condition of the surface of Al87Ni8Y5 amorphous alloy electrode on the microstructure and morphology of the deposited polyaniline films
за авторством: M. Yatsyshyn, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: M. Yatsyshyn, та інші
Опубліковано: (2013)
Optical properties of thin erbium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC substrates with different structures
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2017)
Optical properties of thin erbium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC substrates with different structures
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Optical studies of as-deposited and annealed Cu7GeS5I thin films
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
Nanostructure of amorphous films
за авторством: N. L. Dyakonenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: N. L. Dyakonenko, та інші
Опубліковано: (2017)
Nanostructure of amorphous films
за авторством: Dyakonenko, N.L., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Dyakonenko, N.L., та інші
Опубліковано: (2017)
Influence of divacancy-oxygen defects on recombination properties of n-Si subjected to irradiation and subsequent annealing
за авторством: M. M. Krasko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: M. M. Krasko, та інші
Опубліковано: (2018)
Influence of divacancy-oxygen defects on recombination properties of n-Si subjected to irradiation and subsequent annealing
за авторством: M. M. Krasko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: M. M. Krasko, та інші
Опубліковано: (2018)
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Thermal annealing and evolution of defects in neutron-irradiated cubic SiC
за авторством: Bratus, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Bratus, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2015)
Thermal annealing and evolution of defects in neutron-irradiated cubic SiC
за авторством: Ya. Bratus, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Ya. Bratus, та інші
Опубліковано: (2015)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Crystallization study of (As₂S₃)₁₀₀-x(SbSI)x amorphous films by the optical method
за авторством: Rubish, V.M., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Rubish, V.M., та інші
Опубліковано: (2012)
Photoelectric properties of SiGe films covered with amorphous- and polycrystalline-silicon layers
за авторством: V. Shmid, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: V. Shmid, та інші
Опубліковано: (2019)
Photoelectric properties of SiGe films covered with amorphous- and polycrystalline-silicon layers
за авторством: V. Shmid, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: V. Shmid, та інші
Опубліковано: (2019)
Scanning Acoustic Microscopy of Annealing Effects for Aluminium Thin Film Deposited on Silicon Substrate
за авторством: Chafia Atailia, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Chafia Atailia, та інші
Опубліковано: (2018)
Investigation of SiC films obtained on a porous-Si/Si substrate
за авторством: V. V. Kidalov, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: V. V. Kidalov, та інші
Опубліковано: (2024)
Influence of vacuum annealing on the composition of electrochemically deposited zinc selenide layers
за авторством: Klochko, N.P., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Klochko, N.P., та інші
Опубліковано: (2005)
Effect of low-temperature annealing on light-emitting properties of na-Si/SiOx porous nanocomposite films
за авторством: Lisovskyy, I.P., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Lisovskyy, I.P., та інші
Опубліковано: (2011)
Effect of low-temperature annealing on light-emitting properties of na-Si/SiOx porous nanocomposite films
за авторством: I. P. Lisovskyy, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: I. P. Lisovskyy, та інші
Опубліковано: (2011)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Charge transition phenomena in the heterostructure crystalline Si-Bi-amorphous film Ge₃₃As₁₂Se₅₅
за авторством: Kondrat, O., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Kondrat, O., та інші
Опубліковано: (2004)
Схожі ресурси
-
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015) -
Evaluation of materials nanohardness by the spheroconical indenter
за авторством: V. I. Moshchenok, та інші
Опубліковано: (2017) -
Study of postimplantation annealing of SiC
за авторством: Avramenko, S.F., та інші
Опубліковано: (2001) -
The growth of Sb₂S₃ crystals with bend lattice during amorphous films annealing and condensation
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2005) -
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013)