Buchumschlag

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2015
Hauptverfasser:	A. O. Kozak, V. I. Ivashchenko, O. K. Porada, L. A. Ivashchenko, O. K. Synelnychenko, S. M. Dub, O. S. Lytvyn, I. I. Tymofieieva, H. M. Tolmacheva
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2015
Schriftenreihe:	Superhard Materials
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000694123
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Institution

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Ähnliche Einträge

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
von: O. O. Onopriienko, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2019)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
von: Panchenko, O.A., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
von: A. D. Pogrebnjak, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2015)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
von: Nowakowska-Langier, K., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
von: O. V. Kalinkevich, et al.
Veröffentlicht: (2017)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
von: V. M. Kolomiiets, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2017)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
von: L. R. Shaginjan, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)

Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
von: I. P. Studenyak, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
von: O. I. Vjunov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
von: Panasyuk, A.D., et al.
Veröffentlicht: (2009)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
von: Afanasіeva, I.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: V. V. Brus, et al.
Veröffentlicht: (2011)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
von: Bizyukov, A.A., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
von: V. A. Sevrjukova, et al.
Veröffentlicht: (2011)

Hard plasmachemical a-SiCN coatings
von: O. K. Porada, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
von: Sobol`, O.V.
Veröffentlicht: (2006)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
von: A. Rahmati, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2017)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
von: Bogdanov, R.V., et al.
Veröffentlicht: (2013)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
von: Yu. S. Borysov, et al.
Veröffentlicht: (2022)

The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
von: A. I. Bazhin, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films
von: O. K. Porada
Veröffentlicht: (2015)

Crystalline and amorphous polymeric solid nitrogen
von: Yakub, L.N.
Veröffentlicht: (2003)

The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
von: G. S. Khrypunov, et al.
Veröffentlicht: (2017)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)