Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | V. A. Danko, M. L. Dmytruk, I. Z. Indutnyi, S. V. Mamykin, V. I. Mynko, P. M. Lytvyn, M. V. Lukaniuk, Ye. Shepeliavyi |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2015
|
Назва видання: | Optoelectronics and Semiconductor Technique |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001061487 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2015) -
Growth of the photonic nanostruc-tures using interference lithography and oblique deposition in vacuum
за авторством: I. Z. Indutnyi, та інші
Опубліковано: (2011) -
Fabrication of silicon grating structures using interference lithography and chalcogenide inorganic photoresist
за авторством: Min’ko, V.I., та інші
Опубліковано: (2007) -
Efficient SERS substrates based on laterally ordered gold nanostructures made using interference lithography
за авторством: O. M. Hreshchuk, та інші
Опубліковано: (2019)