Influence of thermoannealings at 450 and 650 oC on the tensoresistance and anisotropy parameter in mobility of silicon single crystals

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2014
Автори: P. I. Baranskyi, H. P. Haidar
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: 2014
Назва видання:Optoelectronics and Semiconductor Technique
Онлайн доступ:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363505
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси