Зображення обкладинки

Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2014
Автори:	A. A. Golishnikov, M. G. Putrja
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2014
Назва видання:	Technology and design in electronic equipment
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000405244
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Energy-saving technology for processing of exhausted etching solutions with obtaining of ferromagnetic compounds
за авторством: Samchenko, Dmitry N., та інші
Опубліковано: (2022)

Energy-saving technology for processing of exhausted etching solutions with obtaining of ferromagnetic compounds
за авторством: D. M. Samchenko, та інші
Опубліковано: (2022)

Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Obtaining periodic layers GaAs by electrochemical etching
за авторством: A. F. Djadenchuk, та інші
Опубліковано: (2014)

Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Magnetotelluric Response Function of 3D Model of Deep Faults
за авторством: T. K. Burakhovich, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of deep-level impurities on the strain electric properties of monocrystalline silicon
за авторством: S. Zainabidinov, та інші
Опубліковано: (2017)

Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)

3D printing of metallic volumetric parts of complex shape based on welding plasma-arc technologies (Review)
за авторством: V. N. Korzhik, та інші
Опубліковано: (2016)

Development of the Market of 3D Technologies in Procurement Production
за авторством: V. S. Doroshenko
Опубліковано: (2021)

Silicon semiconductor: technologies and prospects
за авторством: A. M. Verkhovljuk, та інші
Опубліковано: (2017)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Automated method for determining the etch pits density on crystallographic planes of large semiconductor crystals
за авторством: G. S. Pekar, та інші
Опубліковано: (2016)

3D Technology and 2D Materials
за авторством: S. O. Firstov
Опубліковано: (2019)

Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)

Modification of optical properties of porous AIIIBV layers produced by anodic etching
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)

Modification of optical properties of porous AIIIBV layers produced by anodic etching
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: A. Yasunas, та інші
Опубліковано: (2013)

Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: I. V. Gorbov, та інші
Опубліковано: (2014)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2014)

The experiment of integrated mobile technologies used for deep hydrocarbon accumulation prospecting and geophysical mapping at the West Antarctic bottom structures
за авторством: V. D. Solovev, та інші
Опубліковано: (2017)

The experiment of integrated mobile technologies used for deep hydrocarbon accumulation prospecting and geophysical mapping at the West Antarctic bottom structures
за авторством: Solovyov, V. D., та інші
Опубліковано: (2017)

Manufacturing technology for contacts to silicon carbide
за авторством: Ja. Ja. Kudrik, та інші
Опубліковано: (2013)

Technologies for Creating Holographic 3D Showcase Presentations
за авторством: I. A. Tyshchenko
Опубліковано: (2022)

Development of automated equipment for manufacturing 3D metal products based on additive technologies
за авторством: V. N. Korzhik, та інші
Опубліковано: (2017)

Methods and mechanisms of gettering of silicon structures in the production of integrated circuits
за авторством: V. A. Pilipenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)

Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch
за авторством: Iatsunskyi, I. R.
Опубліковано: (2013)

Получение пригодного для сенсорики пористого кремния методом неэлектролитического травления MacEtch
за авторством: Яцунский, И.Р.
Опубліковано: (2013)

Plasma process of producing a &quot;solar&quot; silicon
за авторством: S. V. Petrov
Опубліковано: (2013)

Theory of integral acoustoelasticity for 3-D stress-strained state
за авторством: Chekurin, V.
Опубліковано: (2010)