Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автори: | O. I. Vjunov, L. L. Kovalenko, A. G. Belous, O. Bohnke, C. Bohnke |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2014
|
| Назва видання: | Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000476018 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Получение наноразмерных плёнок LiPON высокочастотным магнетронным напылением
за авторством: Вьюнов, О.И., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Вьюнов, О.И., та інші
Опубліковано: (2014)
Fabrication of Nanosize Films on the Base of Scutterudite CoSb₃ for Thermoelectric Devices
за авторством: Makogon, Yu.M., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Makogon, Yu.M., та інші
Опубліковано: (2018)
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Fabrication of nanosize films on the base of scutterudite CoSb3 for thermoelectric devices
за авторством: Yu. M. Makogon, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. M. Makogon, та інші
Опубліковано: (2018)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Electrostructuring dispersions of nanosize fillers for fabrication of adaptive composites
за авторством: E. V. Korobko, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: E. V. Korobko, та інші
Опубліковано: (2011)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)
Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
Fabrication of photocatalytically active nanosize titanium dioxide from its alkoxides
за авторством: V. A. Osipova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Osipova, та інші
Опубліковано: (2011)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)
Схожі ресурси
-
Получение наноразмерных плёнок LiPON высокочастотным магнетронным напылением
за авторством: Вьюнов, О.И., та інші
Опубліковано: (2014) -
Fabrication of Nanosize Films on the Base of Scutterudite CoSb₃ for Thermoelectric Devices
за авторством: Makogon, Yu.M., та інші
Опубліковано: (2018) -
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)