Mechanisms of contact resistance formation in ohmic contacts with high dislocation density (review)

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автори: A. V. Sachenko, A. E. Beljaev, N. S. Boltovets, R. V. Konakova, V. N. Sheremet
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: 2013
Назва видання:Optoelectronics and Semiconductor Technique
Онлайн доступ:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363118
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS