Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | N. A. Vasilenko, A. O. Vasilenko |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Journal of mechanical engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000450102 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)
Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Structural and optical properties of Zn1-xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Effect of Deposition Parameters on Physicochemical, Mechanical, and Tribotechnical Properties and Structure of Nitride and Carbonitride Coatings
за авторством: B. R. Zhollybekov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: B. R. Zhollybekov, та інші
Опубліковано: (2013)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Comparison of physicochemical and performance properties of biodiesel fuel based on methanol and bioalcohols
за авторством: S. O. Zubenko, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: S. O. Zubenko, та інші
Опубліковано: (2018)
Comparison of the Energy Absorption of Closed Cell Aluminum Foam Produced by Various Foaming Agents
за авторством: Movahedi, N., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Movahedi, N., та інші
Опубліковано: (2016)
The influence of energy parameters of hydrogen-free nitriding in the glow discharge on physicochemical properties of 40X steel
за авторством: N. M. Stechyshyna, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: N. M. Stechyshyna, та інші
Опубліковано: (2021)
Structure and properties of Mg, Al, Ti oxide and nitride layers formed by ion-plasma sputtering
за авторством: Pidkova, V., та інші
Опубліковано: (2014-12-12)
за авторством: Pidkova, V., та інші
Опубліковано: (2014-12-12)
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Physicochemical properties of carbon nanostructures for biotechnologies
за авторством: M. V. Manilo, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: M. V. Manilo, та інші
Опубліковано: (2011)
Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
за авторством: L. R. Shaginjan, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: L. R. Shaginjan, та інші
Опубліковано: (2016)
Dielectric, ferroelectric and piezoelectric properties of sputtered PZT thin films on Si substrates: influence of film thickness and orientation
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
Influence of physicochemical impacts on properties of carbon nanotubes
за авторством: A. D. Shevchenko, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. D. Shevchenko, та інші
Опубліковано: (2014)
Physicochemical properties of carbonitrided KhVH steel
за авторством: M. S. Stechyshyn, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: M. S. Stechyshyn, та інші
Опубліковано: (2020)
Physicochemical properties Cu-Cr Composites
за авторством: I. M. Hrechaniuk, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: I. M. Hrechaniuk, та інші
Опубліковано: (2018)
Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Biological and physicochemical properties of cymbidium mosaic virus
за авторством: N. Y. Parkhomenko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: N. Y. Parkhomenko, та інші
Опубліковано: (2020)
Physicochemical properties of 40Kh carbonitrided steel
за авторством: M. S. Stechyshyn, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: M. S. Stechyshyn, та інші
Опубліковано: (2020)
Схожі ресурси
-
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014) -
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014) -
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011) -
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011) -
Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)