Effect of pressure on the properties of Al SiO2 n-Si Ni structures
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | S. I. Vlasov, A. V. Ovsyannikov, B. K. Ismailov, B. H. Kuchkarov |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2012
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000350135 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Effect of pressure on the properties of Al-SiO₂-n-Si<Ni> structures
за авторством: Vlasov, S.I., та інші
Опубліковано: (2012) -
Interaction of Red Blood Cells with Fumed SiO2, Al2O3/SiO2 and TiO2/SiO2 by Light Scattering Measurements
за авторством: Gerashchenko, I.I., та інші
Опубліковано: (2010) -
Роль поверхности в формировании свойств пирогенных нанокомпозитов SiO₂-Al₂O₃, SiO₂-ТіO₂ и Al₂O₃-SiO₂-ТіO₂
за авторством: Горбик, П.П., та інші
Опубліковано: (2006) -
Modification of properties of the glass-Si₃N₄-Si-SiO₂ structure at laser treatment
за авторством: Konakova, R.V., та інші
Опубліковано: (2009) -
Prediction of thermodynamic properties of melts of Al2O3–SiO2 system
за авторством: I. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2015)