Studying of properties of silicon junctions with the Schottky barrier fabricated on the base of amorphous and polycrystalline various metal alloys
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автор: | I. G. Pashaev |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2012
|
Назва видання: | Progress in Physics of Metals |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000469481 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Репозиторії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Grain Boundary Junctions in Polycrystalline Silicon Films
за авторством: O. T. Bohorosh, та інші
Опубліковано: (2013) -
SiC Schottky-barrier diodes formed with TiBx and ZrBx amorphous layers
за авторством: Boltovets, N.S., та інші
Опубліковано: (2004) -
Conditions for the fabrication of metallic glasses and truly amorphous materials
за авторством: O. B. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2020) -
On the work function and Schottky barrier heights of metal nanofilms in a dielectric environment
за авторством: A. V. Babich
Опубліковано: (2014) -
On the work function and Schottky barrier heights of metal nanofilms in a dielectric environment
за авторством: A. V. Babich
Опубліковано: (2014)