Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides

Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2021
Автори:	M. S. Zaiats, V. H. Boiko, B. M. Romaniuk, P. M. Lytvyn
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2021
Назва видання:	Optoelectronics and Semiconductor Technique
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001342045
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Structure of aluminum nitride layers formed under ion-plasma spraying
за авторством: Z. A. Duriahina, та інші
Опубліковано: (2013)

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: A. Yasunas, та інші
Опубліковано: (2013)

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: Yasunas, A., та інші
Опубліковано: (2013)

Ion–plasma deposition of the nanostructured multicom-ponent coatings on thermolabile materials
за авторством: L. S. Osipov, та інші
Опубліковано: (2014)

Ion-beam deposition of ultrathin metall nitride and oxynitride films process stabilization
за авторством: A. V. Derevjanko, та інші
Опубліковано: (2008)

Structure of gold islet films on thermobaric sintered cubic boron nitride
за авторством: I. P. Fesenko, та інші
Опубліковано: (2020)

The effect of high pressures and high temperatures on the properties of aluminum nitride
за авторством: V. S. Urbanovich, та інші
Опубліковано: (2015)

Synthesis of cubic boron nitride with using of dense modifications of boron nitride polycrystalline grains
за авторством: I. O. Borymskyi
Опубліковано: (2017)

Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Positron annihilation in boron nitride
за авторством: Amrane, N.
Опубліковано: (2006)

Investigation of nitrogen distribution in samples obtained by ion-induced deposition of Cr film on aluminum under nitrogen ions bombardment
за авторством: A. V. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2003)

Catalyst-free deposition of nanocolumnar carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2010)

Ion-plasma nitriding of inner cylindrical surfaces of products
за авторством: I. V. Smyrnov, та інші
Опубліковано: (2022)

Determination of surface grafene-boron nitride
за авторством: V. A. Petrova, та інші
Опубліковано: (2015)

Development of technology for obtaining nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023)

Low-temperature synthesis of boron carbide ceramics
за авторством: Ye. V. Solodkyi, та інші
Опубліковано: (2018)

Preventive action of silicon nitride at HT-HP sintering of cubic boron nitride
за авторством: I. A. Petrusha, та інші
Опубліковано: (2015)

On the features of the process of deposition of ion-plasma coatings based on titanium nitride in the range of nitrogen pressures of 2-10 Pa
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)

Fullerene and fullerene-aluminum nanostructured films as sensitive layers for gas sensors
за авторством: Grynko, D., та інші
Опубліковано: (2009)

Development of a technology for the production of nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023)

Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)

Cubic boron nitride thermobaric sintering in occurrence of unstable nitrides based on chromium and iron
за авторством: I. A. Petrusha, та інші
Опубліковано: (2016)

On twinning in ultrahard nanocrystalline cubic boron nitride
за авторством: V. L. Solozhenko, та інші
Опубліковано: (2020)

Enhancement of infrared absorption of the low-temperature uracil thin films by nanostructured silver surface
за авторством: Ju. Ivanov, та інші
Опубліковано: (2016)

Anisotropic phase transformation mechanism on coarse-grained and fine-grained pure titanium at low-temperature plasma nitriding
за авторством: J. M. Windajanti, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
за авторством: V. I. Popovych, та інші
Опубліковано: (2016)

First-principles investigation of concentration effects on the electronic and vibrational properties of a boron aluminum phosphide alloy with wurtzoid nanostructure
за авторством: H. A. Fayyadh
Опубліковано: (2022)

First-principles investigation of concentration effects on the electronic and vibrational properties of a boron aluminum phosphide alloy with wurtzoid nanostructure
за авторством: H. A. Fayyadh
Опубліковано: (2022)

Luminescence of nanostructures based on semiconductor nitrides
за авторством: Menkovich, E.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Tribological characteristics of superhard materials cubic boron nitride
за авторством: A. A. Adamovskij, та інші
Опубліковано: (2015)

On the mechanism of hardening wurtzitic boron nitride under an indenter
за авторством: G. S. Olejnik
Опубліковано: (2013)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Low temperature thermal conductivity of heavily boron-doped synthetic diamond: Influence of boron-related structure defects
за авторством: D. Prikhodko, та інші
Опубліковано: (2019)

Low temperature thermal conductivity of heavily boron-doped synthetic diamond: Influence of boron-related structure defects
за авторством: Prikhodko, D., та інші
Опубліковано: (2019)

Physical mechanisms of microstructure formation in niobium films under low temperature ionic-atomic deposition
за авторством: Marchenko, I.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Boron, aluminum, nitrogen, oxygen impurities in silicon carbide
за авторством: Vlaskina, S.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Ion-plasma deposition of thin quasicrystalline Al-Cu-Fe and Al-Cu-Co films
за авторством: Ryabtsev, S.I., та інші
Опубліковано: (2020)