Impact of sidewall spacer on gate leakage behavior of nano-scale MOSFETs
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | A. K. Rana, N. Chand, V. Kapoor |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2011
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349496 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Impact of sidewall spacer on gate leakage behavior of nano-scale MOSFETs
за авторством: Rana, A.K., та інші
Опубліковано: (2011) -
Influence of traps in gate oxide-Si film transition layers on FD MOSFET's characteristics at cryogenic emperatures
за авторством: Lysenko, V.S., та інші
Опубліковано: (2007) -
A neural computation to study the scaling capability of the undoped DG MOSFET
за авторством: Djeffal, F., та інші
Опубліковано: (2008) -
Cascade of Axial-Symmetric Inhomogeneous Resonators with Impedance Sidewalls
за авторством: Kazanskiy, V. B., та інші
Опубліковано: (2013) -
Surface mounting of unpackaged power MOSFET
за авторством: D. L. Anufriev, та інші
Опубліковано: (2006)