Bratus, O. L., Evtukh, A. A., Lytvyn, O. S., Voitovych, M. V., & Yukhymchuk, V. O. (2011). Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Bratus, O. L., A. A. Evtukh, O. S. Lytvyn, M. V. Voitovych, та V. O. Yukhymchuk. Structural Properties of Nanocomposite SiO2(Si) Films Obtained by Ion-plasma Sputtering and Thermal Annealing. 2011.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Bratus, O. L., et al. Structural Properties of Nanocomposite SiO2(Si) Films Obtained by Ion-plasma Sputtering and Thermal Annealing. 2011.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.