Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
Збережено в:
| Дата: | 2011 |
|---|---|
| Автори: | O. L. Bratus, A. A. Evtukh, O. S. Lytvyn, M. V. Voitovych, V. O. Yukhymchuk |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2011
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349503 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Transformation of SiOx films into nanocomposite SiO2(Si) films under thermal and laser annealing
за авторством: O. V. Steblova, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. V. Steblova, та інші
Опубліковано: (2014)
Electron transport through nanocomposite SiO₂(Si) films containing Si nanocrystals
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2016)
Electron transport through nanocomposite SiO2(Si) films containing Si nanocrystals
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2016)
Thermal conductivity of argon–SiO₂ cryocrystal nanocomposite
за авторством: Nikonkov, R.V., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Nikonkov, R.V., та інші
Опубліковано: (2016)
Effect of low-temperature annealing on light-emitting properties of na-Si/SiOx porous nanocomposite films
за авторством: I. P. Lisovskyy, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: I. P. Lisovskyy, та інші
Опубліковано: (2011)
Effect of low-temperature annealing on light-emitting properties of na-Si/SiOx porous nanocomposite films
за авторством: Lisovskyy, I.P., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Lisovskyy, I.P., та інші
Опубліковано: (2011)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Thermal conductivity of argon–SiO2 cryocrystal nanocomposite
за авторством: R. V. Nikonkov, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: R. V. Nikonkov, та інші
Опубліковано: (2016)
Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
Molecular dynamics calculation of thermal conductivity in a-SiO2 and an a-SiO2-based nanocomposite
за авторством: V. V. Kuryliuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. V. Kuryliuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Molecular dynamics calculation of thermal conductivity in a-SiO2 and an a-SiO2-based nanocomposite
за авторством: V. V. Kuryliuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. V. Kuryliuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Thermal annealing and evolution of defects in neutron-irradiated cubic SiC
за авторством: Ya. Bratus, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Ya. Bratus, та інші
Опубліковано: (2015)
Interface features of SiO₂/SiC heterostructures according to methods for producing the SiO₂ thin films
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2012)
Thermal annealing and evolution of defects in neutron-irradiated cubic SiC
за авторством: Bratus, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Bratus, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2015)
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Thin dysprosium oxide films formed by rapid thermal annealing on porous SiC substrates
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
Thin dysprosium oxide films formed by rapid thermal annealing on porous SiC substrates
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: O. O. Havryliuk, та інші
Опубліковано: (2013)
Comparison of properties inherent to thin titanium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC and porous SiC substrates
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2018)
Comparison of properties inherent to thin titanium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC and porous SiC substrates
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bacherikov, Yu.Yu., та інші
Опубліковано: (2018)
Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
за авторством: Plyaka, S.N., та інші
Опубліковано: (1999)
за авторством: Plyaka, S.N., та інші
Опубліковано: (1999)
Interface features of SiO2/SiC heterostructures according to methods for producing the SiO2 thin films
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Yu. Yu. Bacherikov, та інші
Опубліковано: (2012)
Investigation of SiC films obtained on a porous-Si/Si substrate
за авторством: V. V. Kidalov, та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: V. V. Kidalov, та інші
Опубліковано: (2024)
Spectral-ellipsometric examining the films of gold nanoparticles on Si/SiO₂ substrate
за авторством: Bortchagovsky, E.G., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Bortchagovsky, E.G., та інші
Опубліковано: (2012)
Electrical properties of semiconductor structures with Si nanoclusters in SiO₂ grown by high temperature annealing technology of SiOx layer, X<2
за авторством: Bunak, S.V., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bunak, S.V., та інші
Опубліковано: (2010)
Spectral-ellipsometric examining the films of gold nanoparticles on Si/SiO2 substrate
за авторством: E. G. Bortchagovsky, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: E. G. Bortchagovsky, та інші
Опубліковано: (2012)
Ellipsometric evidence of CoSi₂ formation in Co/Si multilayer induced by thermal annealing
за авторством: Kudryavtsev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Kudryavtsev, Y.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films
за авторством: O. O. Gavrylyuk
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. O. Gavrylyuk
Опубліковано: (2014)
Modification of properties of the glass-Si₃N₄-Si-SiO₂ structure at laser treatment
за авторством: Konakova, R.V., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Konakova, R.V., та інші
Опубліковано: (2009)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Electrical properties of carbon-inorganic nanocomposites C/MXOY/SiO2
за авторством: S. N. Makhno, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: S. N. Makhno, та інші
Опубліковано: (2012)
Magneto-optical properties of nanocomposites (Co₄₁Fe₃₉B₂₀)ₓ(SiO₂)₁₀₀₋ₓ
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2020)
Studying mechanical, acoustical and dielectric properties of SiO₂-filled polyester resin nanocomposites
за авторством: Gorelov, B.M., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Gorelov, B.M., та інші
Опубліковано: (2012)
Микроскопическая природа оптических центров Pr³⁺ в кристаллах Y₂SiO₅, Lu₂SiO₅, Gd₂SiO₅
за авторством: Малюкин, Ю.В., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Малюкин, Ю.В., та інші
Опубліковано: (2002)
Селективная спектроскопия примесных ионов Pr³⁺ в кристаллах Y₂SiO₅ , Gd₂SiO₅ , Lu₂SiO₅
за авторством: Малюкин, Ю.В., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Малюкин, Ю.В., та інші
Опубліковано: (2000)
Electrical properties of semiconductor structures with Si nanoclusters in SiO2 grown by high temperature annealing technology of SiOX layer, X&lt;2
за авторством: S. V. Bunak, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: S. V. Bunak, та інші
Опубліковано: (2010)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Схожі ресурси
-
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011) -
Transformation of SiOx films into nanocomposite SiO2(Si) films under thermal and laser annealing
за авторством: O. V. Steblova, та інші
Опубліковано: (2014) -
Electron transport through nanocomposite SiO₂(Si) films containing Si nanocrystals
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2016) -
Electron transport through nanocomposite SiO2(Si) films containing Si nanocrystals
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2016) -
Thermal conductivity of argon–SiO₂ cryocrystal nanocomposite
за авторством: Nikonkov, R.V., та інші
Опубліковано: (2016)