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Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2011
Hauptverfasser:	O. L. Bratus, A. A. Evtukh, O. S. Lytvyn, M. V. Voitovych, V. O. Yukhymchuk
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2011
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349503
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