Polarization conversion effect in obliquely deposited SiOx films

Polarization conversion effect in obliquely deposited SiOx films

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2011
Hauptverfasser:	M. V. Sopinskyy, I. Z. Indutnyi, K. V. Michailovska, P. E. Shepeliavy, V. M. Tkach
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2011
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349737
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