Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй

The Rutherford backscattering and particle-induced X-ray emission methods are used to study the surface layers in gold–silicon structures, the parameters of which govern the operational characteristics of electron devices constructed on their basis. The measurements are performed on a high-precision...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2018
Автори: Soroka, V. I., Lebed, S. O., Tolmachov, M. G., Kukharenko, O. G., Veselov, O. O.
Формат: Стаття
Мова:English
Ukrainian
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2018
Теми:
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018296
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозиторії

Ukrainian Journal of Physics
id ujp2-article-2018296
record_format ojs
spelling ujp2-article-20182962019-03-05T14:41:56Z Nuclear Microanalysis Study of Surface Nanolayers in Gold–Silicon Structures Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй Soroka, V. I. Lebed, S. O. Tolmachov, M. G. Kukharenko, O. G. Veselov, O. O. ядерний мiкроаналiз резерфордiвське зворотне розсiяння iндуковане частинками характеристичне рентгенiвське випромiнювання альфа-частинки “cкануючий ядерний зонд” поверхневi наношари промiжний шар nuclear microanalysis Rutherford backscattering particle induced X-ray emission alpha particles “Nuclear scanning probe” surface layers interface layer The Rutherford backscattering and particle-induced X-ray emission methods are used to study the surface layers in gold–silicon structures, the parameters of which govern the operational characteristics of electron devices constructed on their basis. The measurements are performed on a high-precision microanalytical unit “Nuclear scanning probe” recently put into operation at the “Spectrum” laboratory. The thicknesses of a gold layer sputtered onto the specimen surface were about 17 and 20 nm for two different specimens. The layer non-uniformity was less than 1.6 nm and did not exceed the experimental error. A substantial amount of the fluorine impurity was revealed under the gold layer in the gold–silicon interface layer. Probably, it may be remnants of fluorine remaining after the etching of the silicon surface in a mixture of acids that included the hydrofluoric one (HF). The amount of fluorine detected in a series of measurements was found to strongly correlate with the current of alpha-particles at the target surface during the spectrum measurement. Since the local heating of the target depends on the current, it is evident that the local diffusion rate of fluorine atoms varied over the target surface. Ядерними аналiтичними методами резерфордiвського зворотного розсiяння та iндукованого частинками характеристичного рентгенiвського випромiнювання дослiджено поверхневi наношари структури золото–кремнiй. Вiд параметрiв цих шарiв кардинально залежать електротехнiчнi властивостi побудованих на їх основi електронних приладiв. Вимiрювання виконано на прецизiйнiй мiкроаналiтичнiй установцi “Скануючий ядерний зонд” щойно введенiй в експлуатацiю в лабораторiї “Спектр”. Експеримент показав, що товщина шару золота, напиленого на поверхню зразкiв, дорiвнює ~ 17 нм (для одного зразка) i ~ 20 нм (для другого зразка). Неоднорiднiсть товщини цих шарiв по поверхнi не перевищує 1,6 нм i не виходить за межi похибки експерименту. Пiд золотом, у промiжному шарi золото–кремнiй, виявлено значну кiлькiсть домiшки. Iмовiрно, що це залишок фтору пiсля технологiчної операцiї травлення поверхнi кремнiю в сумiшi кислот, куди входить i плавикова (HF) кислота. Показово, що кiлькiсть виявленогофтору для серiї вимiрiв сильно корелює з величиною струму альфа-частинок на мiшенi пiд час набору спектра. Очевидно, що локальний нагрiв мiшенi залежить вiд величини струму. Звiдси випливає рiзна швидкiсть локальної дифузiї атомiв фтору з поверхнi мiшенi. Publishing house "Academperiodika" 2018-10-06 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018296 10.15407/ujpe58.04.0311 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 58 No. 4 (2013); 311 Український фізичний журнал; Том 58 № 4 (2013); 311 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe58.04 en uk https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018296/230 https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018296/231 Copyright (c) 2018 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
institution Ukrainian Journal of Physics
collection OJS
language English
Ukrainian
topic ядерний мiкроаналiз
резерфордiвське зворотне розсiяння
iндуковане частинками характеристичне рентгенiвське випромiнювання
альфа-частинки
“cкануючий ядерний зонд”
поверхневi наношари
промiжний шар
nuclear microanalysis
Rutherford backscattering
particle induced X-ray emission
alpha particles
“Nuclear scanning probe”
surface layers
interface layer
spellingShingle ядерний мiкроаналiз
резерфордiвське зворотне розсiяння
iндуковане частинками характеристичне рентгенiвське випромiнювання
альфа-частинки
“cкануючий ядерний зонд”
поверхневi наношари
промiжний шар
nuclear microanalysis
Rutherford backscattering
particle induced X-ray emission
alpha particles
“Nuclear scanning probe”
surface layers
interface layer
Soroka, V. I.
Lebed, S. O.
Tolmachov, M. G.
Kukharenko, O. G.
Veselov, O. O.
Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
topic_facet ядерний мiкроаналiз
резерфордiвське зворотне розсiяння
iндуковане частинками характеристичне рентгенiвське випромiнювання
альфа-частинки
“cкануючий ядерний зонд”
поверхневi наношари
промiжний шар
nuclear microanalysis
Rutherford backscattering
particle induced X-ray emission
alpha particles
“Nuclear scanning probe”
surface layers
interface layer
format Article
author Soroka, V. I.
Lebed, S. O.
Tolmachov, M. G.
Kukharenko, O. G.
Veselov, O. O.
author_facet Soroka, V. I.
Lebed, S. O.
Tolmachov, M. G.
Kukharenko, O. G.
Veselov, O. O.
author_sort Soroka, V. I.
title Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_short Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_full Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_fullStr Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_full_unstemmed Дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_sort дослiдження методами ядерного мiкроаналiзу поверхневих наношарiв структури золото–кремнiй
title_alt Nuclear Microanalysis Study of Surface Nanolayers in Gold–Silicon Structures
description The Rutherford backscattering and particle-induced X-ray emission methods are used to study the surface layers in gold–silicon structures, the parameters of which govern the operational characteristics of electron devices constructed on their basis. The measurements are performed on a high-precision microanalytical unit “Nuclear scanning probe” recently put into operation at the “Spectrum” laboratory. The thicknesses of a gold layer sputtered onto the specimen surface were about 17 and 20 nm for two different specimens. The layer non-uniformity was less than 1.6 nm and did not exceed the experimental error. A substantial amount of the fluorine impurity was revealed under the gold layer in the gold–silicon interface layer. Probably, it may be remnants of fluorine remaining after the etching of the silicon surface in a mixture of acids that included the hydrofluoric one (HF). The amount of fluorine detected in a series of measurements was found to strongly correlate with the current of alpha-particles at the target surface during the spectrum measurement. Since the local heating of the target depends on the current, it is evident that the local diffusion rate of fluorine atoms varied over the target surface.
publisher Publishing house "Academperiodika"
publishDate 2018
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018296
work_keys_str_mv AT sorokavi nuclearmicroanalysisstudyofsurfacenanolayersingoldsiliconstructures
AT lebedso nuclearmicroanalysisstudyofsurfacenanolayersingoldsiliconstructures
AT tolmachovmg nuclearmicroanalysisstudyofsurfacenanolayersingoldsiliconstructures
AT kukharenkoog nuclearmicroanalysisstudyofsurfacenanolayersingoldsiliconstructures
AT veselovoo nuclearmicroanalysisstudyofsurfacenanolayersingoldsiliconstructures
AT sorokavi doslidžennâmetodamiâdernogomikroanalizupoverhnevihnanošarivstrukturizolotokremnij
AT lebedso doslidžennâmetodamiâdernogomikroanalizupoverhnevihnanošarivstrukturizolotokremnij
AT tolmachovmg doslidžennâmetodamiâdernogomikroanalizupoverhnevihnanošarivstrukturizolotokremnij
AT kukharenkoog doslidžennâmetodamiâdernogomikroanalizupoverhnevihnanošarivstrukturizolotokremnij
AT veselovoo doslidžennâmetodamiâdernogomikroanalizupoverhnevihnanošarivstrukturizolotokremnij
first_indexed 2023-03-24T08:55:16Z
last_indexed 2023-03-24T08:55:16Z
_version_ 1795757606182060032