Вплив високотемпературного вiдпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплiвкового кремнiю, легованого оловом

Influence of isochronal annealing in the range of 350–1100 oC on the structural properties and the intrinsic absorption edge in thin silicon films doped with tin (a-SiSn) has been studied. It is found that as-deposited a-SiSn films with a tin content of about 4 at.%, unlike undoped a-Si ones, contai...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2018
Автори: Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Kras’ko, M. M., Kolosyuk, A. G., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., Makara, V. A.
Формат: Стаття
Мова:English
Ukrainian
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2018
Теми:
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018349
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозиторії

Ukrainian Journal of Physics