Вплив високотемпературного вiдпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплiвкового кремнiю, легованого оловом

• Datum: 2018
• Hauptverfasser: Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Kras’ko, M. M., Kolosyuk, A. G., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., Makara, V. A.
• Format: Artikel
• Sprache: Englisch; Ukrainisch
• Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2018
• Schlagworte: тонкоплiвковий кремнiй; легування оловом; кристалiзацiя; оптична заборонена зона; iзохронний вiдпал
• Online Zugang: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018349
• Назва журналу: Ukrainian Journal of Physics

Influence of isochronal annealing in the range of 350–1100 oC on the structural properties and the intrinsic absorption edge in thin silicon films doped with tin (a-SiSn) has been studied. It is found that as-deposited a-SiSn films with a tin content of about 4 at.%, unlike undoped a-Si ones, contai...