Формування стiйких поверхневих структур при iонному розпорошеннi в рамках анiзотропної моделi Курамото–Сiвашинського

The processes of change of a surface morphology and formation of a stationary pattern at the ion sputtering are considered. A linear stability analysis was carried out, and the range of parameters, at which the patterning is possible, is determined. Assuming the existence of a stabilization paramete...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автор: Lysenko, I. O.
Формат: Стаття
Мова:English
Ukrainian
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2019
Теми:
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019061
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозитарії

Ukrainian Journal of Physics