Формування стiйких поверхневих структур при iонному розпорошеннi в рамках анiзотропної моделi Курамото–Сiвашинського
The processes of change of a surface morphology and formation of a stationary pattern at the ion sputtering are considered. A linear stability analysis was carried out, and the range of parameters, at which the patterning is possible, is determined. Assuming the existence of a stabilization paramete...
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English Ukrainian |
| Опубліковано: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019061 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |