Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi

• Дата: 2019
• Автори: Popovych, V. I., Ievtushenko, A. I., Lytvyn, O. S., Romanjuk, V. R., Tkach, V. M., Baturyn, V. A., Karpenko, O. Y., Dranchuk, M. V., Klochkov, L. O., Dushejko, M. G., Karpyna, V. A., Lashkarov, G. V.
• Формат: Стаття
• Мова: English; Ukrainian
• Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2019
• Теми: плiвки ZnO; легування алюмiнiєм; вплив тиску аргону; рентгенiвський дифракцiйний аналiз; ZnO films; aluminum doping; argon pressure effect; X-ray diffraction analysis; -
• Онлайн доступ: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095
• Назва журналу: Ukrainian Journal of Physics

ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:...