Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi
ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:...
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English Ukrainian |
| Опубліковано: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |
Репозитарії
Ukrainian Journal of Physics| id |
ujp2-article-2019095 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
ujp2-article-20190952019-04-16T20:40:34Z Effect of Argon Deposition Pressure on the Properties of Aluminum-Doped ZnO Films Deposited Layer-by-Layer Using Magnetron Sputtering Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi Popovych, V. I. Ievtushenko, A. I. Lytvyn, O. S. Romanjuk, V. R. Tkach, V. M. Baturyn, V. A. Karpenko, O. Y. Dranchuk, M. V. Klochkov, L. O. Dushejko, M. G. Karpyna, V. A. Lashkarov, G. V. плiвки ZnO легування алюмiнiєм вплив тиску аргону рентгенiвський дифракцiйний аналiз ZnO films aluminum doping argon pressure effect X-ray diffraction analysis - ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:Al films is studied. Higher argon pressures are found to reduce the electron mobility in transparent conductive ZnO:Al films and to worsen their conducting properties owing to the free electron scattering by grain boundaries. An increase in the free electron scattering at higher argon pressures reduces the transparency of ZnO:Al films in the visible spectral range. Плiвки ZnO:Al були осадженi на кремнiєвi та склянi пiдкладки методом пошарового осадження в високочастотному магнетронному розпиленнi при змiнi тиску аргону в камерi осадження вiд 0,5 до 2 Па. Дослiджено вплив тиску аргону в камерi осадження на структуру, оптичнi та електричнi властивостi плiвок ZnO:Al. Встановлено, що збiльшення тиску аргону призводить до зниження рухливостi електронiв у прозорих провiдних плiвках ZnO:Al та погiршення їх провiдних властивостей за рахунок розсiяння на границях зерен. Показано, що збiльшення поглинання вiльними носiями зi збiльшенням тиску аргону призводить до зниження прозоростi плiвок ZnO:Al у видимiй областi спектра випромiнювання. Publishing house "Academperiodika" 2019-01-06 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095 10.15407/ujpe61.04.0325 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 61 No. 4 (2016); 325 Український фізичний журнал; Том 61 № 4 (2016); 325 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe61.04 en uk https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095/992 https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095/993 Copyright (c) 2019 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine |
| institution |
Ukrainian Journal of Physics |
| baseUrl_str |
|
| datestamp_date |
2019-04-16T20:40:34Z |
| collection |
OJS |
| language |
English Ukrainian |
| topic |
плiвки ZnO легування алюмiнiєм вплив тиску аргону рентгенiвський дифракцiйний аналiз |
| spellingShingle |
плiвки ZnO легування алюмiнiєм вплив тиску аргону рентгенiвський дифракцiйний аналiз Popovych, V. I. Ievtushenko, A. I. Lytvyn, O. S. Romanjuk, V. R. Tkach, V. M. Baturyn, V. A. Karpenko, O. Y. Dranchuk, M. V. Klochkov, L. O. Dushejko, M. G. Karpyna, V. A. Lashkarov, G. V. Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| topic_facet |
плiвки ZnO легування алюмiнiєм вплив тиску аргону рентгенiвський дифракцiйний аналiз ZnO films aluminum doping argon pressure effect X-ray diffraction analysis - |
| format |
Article |
| author |
Popovych, V. I. Ievtushenko, A. I. Lytvyn, O. S. Romanjuk, V. R. Tkach, V. M. Baturyn, V. A. Karpenko, O. Y. Dranchuk, M. V. Klochkov, L. O. Dushejko, M. G. Karpyna, V. A. Lashkarov, G. V. |
| author_facet |
Popovych, V. I. Ievtushenko, A. I. Lytvyn, O. S. Romanjuk, V. R. Tkach, V. M. Baturyn, V. A. Karpenko, O. Y. Dranchuk, M. V. Klochkov, L. O. Dushejko, M. G. Karpyna, V. A. Lashkarov, G. V. |
| author_sort |
Popovych, V. I. |
| title |
Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_short |
Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_full |
Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_fullStr |
Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_full_unstemmed |
Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_sort |
вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок zno, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi |
| title_alt |
Effect of Argon Deposition Pressure on the Properties of Aluminum-Doped ZnO Films Deposited Layer-by-Layer Using Magnetron Sputtering |
| description |
ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:Al films is studied. Higher argon pressures are found to reduce the electron mobility in transparent conductive ZnO:Al films and to worsen their conducting properties owing to the free electron scattering by grain boundaries. An increase in the free electron scattering at higher argon pressures reduces the transparency of ZnO:Al films in the visible spectral range. |
| publisher |
Publishing house "Academperiodika" |
| publishDate |
2019 |
| url |
https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095 |
| work_keys_str_mv |
AT popovychvi effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT ievtushenkoai effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT lytvynos effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT romanjukvr effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT tkachvm effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT baturynva effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT karpenkooy effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT dranchukmv effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT klochkovlo effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT dushejkomg effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT karpynava effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT lashkarovgv effectofargondepositionpressureonthepropertiesofaluminumdopedznofilmsdepositedlayerbylayerusingmagnetronsputtering AT popovychvi vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT ievtushenkoai vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT lytvynos vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT romanjukvr vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT tkachvm vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT baturynva vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT karpenkooy vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT dranchukmv vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT klochkovlo vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT dushejkomg vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT karpynava vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni AT lashkarovgv vplivtiskuargonuvkameriosadžennânavlastivostilegovanihalûminiêmplivokznoviroŝenihmetodompošarovogoosadžennâprimagnetronnomurozpilenni |
| first_indexed |
2025-10-02T01:15:49Z |
| last_indexed |
2025-10-02T01:15:49Z |
| _version_ |
1851765166426816512 |