Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi
ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:...
Gespeichert in:
| Datum: | 2019 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |