Вплив тиску аргону в камерi осадження на властивостi легованих алюмiнiєм плiвок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленнi

ZnO:Al films are deposited layer-by-layer onto silicon and glass substrates, by using the radio-frequency magnetron sputtering method at various argon pressures from 0.5 to 2 Pa in a deposition chamber. The influence of this pressure on the structure and the optical and electrical properties of ZnO:...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2019
Hauptverfasser: Popovych, V. I., Ievtushenko, A. I., Lytvyn, O. S., Romanjuk, V. R., Tkach, V. M., Baturyn, V. A., Karpenko, O. Y., Dranchuk, M. V., Klochkov, L. O., Dushejko, M. G., Karpyna, V. A., Lashkarov, G. V.
Format: Artikel
Sprache:English
Ukrainian
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2019
Schlagworte:
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019095
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics